中国科学院机构知识库网格
Chinese Academy of Sciences Institutional Repositories Grid
首页
机构
成果
学者
登录
注册
登陆
×
验证码:
换一张
忘记密码?
记住我
×
校外用户登录
CAS IR Grid
机构
上海微系统与信息技术... [2]
近代物理研究所 [1]
采集方式
OAI收割 [3]
内容类型
期刊论文 [3]
发表日期
2004 [2]
2001 [1]
学科主题
Materials ... [1]
Physics, A... [1]
筛选
浏览/检索结果:
共3条,第1-3条
帮助
条数/页:
5
10
15
20
25
30
35
40
45
50
55
60
65
70
75
80
85
90
95
100
排序方式:
请选择
题名升序
题名降序
提交时间升序
提交时间降序
作者升序
作者降序
发表日期升序
发表日期降序
Effects of buried oxide layer on indium diffusion in separation by implantation of oxygen
期刊论文
OAI收割
JOURNAL OF APPLIED PHYSICS, 2004, 卷号: 96, 期号: 6, 页码: 3217-3220
Chen, P
;
Zhu, M
;
Fu, RKY
;
Chu, PK
;
An, ZH
;
Liu, W
;
Montgomery, N
;
Biswas, S
收藏
  |  
浏览/下载:31/0
  |  
提交时间:2012/03/24
TRANSIENT ENHANCED DIFFUSION
ON-INSULATOR FILMS
SILICON
SIO2
PERFORMANCE
CHANNEL
PROFILE
DEFECTS
SIMOX
Implant damage and redistribution of indium in indium-implanted thin silicon-on-insulator
期刊论文
OAI收割
MATERIALS SCIENCE AND ENGINEERING B-SOLID STATE MATERIALS FOR ADVANCED TECHNOLOGY, 2004, 卷号: 114, 页码: 251-254
Chen, P
;
An, ZH
;
Zhu, M
;
Fu, RKY
;
Chu, PK
;
Montgomery, N
;
Biswas, S
收藏
  |  
浏览/下载:17/0
  |  
提交时间:2012/03/24
TRANSIENT ENHANCED DIFFUSION
BURIED SIO2
Effects of ion irradiation on the diffusion of pre-implanted B atoms in crystalline silicon
期刊论文
OAI收割
HIGH ENERGY PHYSICS AND NUCLEAR PHYSICS-CHINESE EDITION, 2001, 卷号: 25, 期号: 1, 页码: 1238-1244
作者:
Sealy, BJ
;
Liu, CL
;
Nejim, A
;
Gwilliam, RM
  |  
收藏
  |  
浏览/下载:18/0
  |  
提交时间:2010/10/29
implantation
transient enhanced diffusion
secondary ion mass spectrometer
crystalline silicon