机构

• 金属研究所 [1]
• 上海微系统与信息技术... [1]

采集方式

• OAI收割 [2]

内容类型

• 期刊论文 [2]

发表日期

• 2012 [1]
• 2006 [1]

学科主题

• Chemistry [1]

筛选

浏览/检索结果: 共2条，第1-2条 帮助 条数/页： 5101520253035404550556065707580859095100 排序方式： 请选择提交时间升序提交时间降序作者升序作者降序题名升序题名降序发表日期升序发表日期降序 The chemistry and thermal stability of HfTaO/Si interface by x-ray photoelectron spectroscopy 期刊论文  OAI收割 SURFACE AND INTERFACE ANALYSIS, 2012, 卷号: 44, 期号: 4, 页码: 395-398 Yu, T; Jin, CG; Yang, XM; Wu, XM; Zhuge, LJ; Ge, SB 收藏  |  浏览/下载：34/0  |  提交时间：2013/04/17 high-k dielectric  thin film  HfTaO  x-ray photoelectron spectroscopy  interfacial chemistry  thermal property   Phase separation enhanced interfacial reactions in complex high-k dielectric films 期刊论文  OAI收割 Integrated Ferroelectrics, 2006, 卷号: 86, 页码: 13-19 X. Y. Qiu; F. Gao; H. W. Liu; J. S. Zhu; J. M. Liu 收藏  |  浏览/下载：27/0  |  提交时间：2012/04/14 phase separation  interfacial reaction  high-k dielectric film  pulsed-laser deposition  silicate thin-films  thermal-stability  gate  property  hfo2