机构

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采集方式

• OAI收割 [8]

内容类型

• 期刊论文 [8]

发表日期

• 2013 [2]
• 2012 [1]
• 2011 [2]
• 2009 [2]
• 2007 [1]

学科主题

• Endocrinol... [1]
• Materials ... [1]
• Physics [1]

筛选

浏览/检索结果: 共8条，第1-8条 帮助 条数/页： 5101520253035404550556065707580859095100 排序方式： 请选择题名升序题名降序提交时间升序提交时间降序作者升序作者降序发表日期升序发表日期降序 Characterization of a novel curcumin analog P1 as potent inhibitor of the NF-kappa B signaling pathway with distinct mechanisms 期刊论文  OAI收割 ACTA PHARMACOLOGICA SINICA, 2013, 卷号: 34, 期号: 7, 页码: 939-950 作者:  Peng, Yan-min;  Zheng, Jian-bin;  Zhou, Yu-bo;  Li, Jia   |  收藏  |  浏览/下载：18/0  |  提交时间：2019/01/08 curcumin  P1  anticancer agent  high-throughput screen  NF-kappa B  HeLa cell  mitochondria  ROS   HfO2 on MoS2 by Atomic Layer Deposition: Adsorption Mechanisms and Thickness Scalability 期刊论文  OAI收割 ACS NANO, 2013, 卷号: 7, 期号: 11, 页码: 10354-10361 - 收藏  |  浏览/下载：21/0  |  提交时间：2016/05/16 HfO2  MoS2  TMD  high-kappa  ALD  band offsets  nanoelectronics   Sign reversal of the Hall resistance in the mixed-state of La1.89Ce0.11CuO4 and La1.89Ce0.11(Cu0.99Co0.01)O-4 thin films 期刊论文  OAI收割 PHYSICA C-SUPERCONDUCTIVITY AND ITS APPLICATIONS, 2012, 卷号: 479, 页码: 53 Jin, K; Wu, BX; Zhu, BY; Zhao, BR; Volodin, A; Vanacken, J; Silhanek, AV; Moshchalkov, VV 收藏  |  浏览/下载：27/0  |  提交时间：2013/09/24 HIGH-TEMPERATURE SUPERCONDUCTORS  HIGH-KAPPA SUPERCONDUCTORS  T-C SUPERCONDUCTORS  II SUPERCONDUCTORS  FLUCTUATION  RESISTIVITY  DEPENDENCE   Integration of Self-Assembled Redox Molecules in Flash Memory Devices 期刊论文  OAI收割 IEEE TRANSACTIONS ON ELECTRON DEVICES, 2011, 卷号: 58, 期号: 3, 页码: 826-834 作者:  Shaw, Jonathan;  Zhong, Yu-Wu;  Hughes, Kevin J.;  Hou, Tuo-Hung;  Raza, Hassan   |  收藏  |  浏览/下载：15/0  |  提交时间：2019/04/09 Coulomb Blockade Effect  High-kappa Dielectric  Nonvolatile Memory Devices  Reduction-oxidation (Redox)-active Molecules  Self-assembled Monolayer (Sam)   Ni-Al-O diffusion barrier layer for high-kappa metal-oxide-semiconductor capacitor 期刊论文  OAI收割 THIN SOLID FILMS, 2011, 卷号: 519, 期号: 10, 页码: 3358-3362 作者:  Wu D. Q.;  Jia R.;  Yao J. C.;  Zhao H. S.;  Chang A. M. 收藏  |  浏览/下载：24/0  |  提交时间：2013/11/07 High-kappa gate dielectrics  Leakage current density  Er(2)O(3)  Ni-Al-O  Diffusion barrier layer   Leakage current mechanisms of ultrathin high-k Er2O3 gate dielectric film 期刊论文  OAI收割 Journal of Semiconductors, 2009, 卷号: 30, 期号: 10, 页码: 21-26 作者:  Wu, Deqi;  Yao, Jincheng;  Zhao, Hongsheng;  Chang, Aimin;  Li, Feng 收藏  |  浏览/下载：31/0  |  提交时间：2014/11/11 Er_2O_3  high-kappa gate dielectrics  leakage current  leakage current mechanisms   The oxidation behavior of Ti-46.5Al-5Nb at 900 degrees C 期刊论文  OAI收割 Intermetallics, 2007, 卷号: 15, 期号: 8, 页码: 989-998 W. Lu; C. L. Chen; Y. J. Xi; F. H. Wang; L. L. He 收藏  |  浏览/下载：24/0  |  提交时间：2012/04/13 titanium aluminides  based on TiAl  oxidation  electron microscopy  transmission  gamma-titanium aluminides  high-temperature air  intermetallic alloys  ternary-system  tial alloys  tem  phase  microstructure  kappa-al2o3  diffraction