中国科学院机构知识库网格系统: 检索

浏览/检索结果: 共6条，第1-6条

帮助

条数/页：排序方式：
	In situ surface topography measurement method of granite base in scanning wafer stage with laser interferometer 期刊论文 OAI收割 optik, 2008, 卷号: 119, 期号: 1, 页码: 1, 6 He Le; 王向朝; Shi Weijie 收藏 \| 浏览/下载：992/151 \| 提交时间：2009/09/18 laser interferometer topography measurement least squares method scanning wafer stage lithographic tool
	一种检测光刻机激光干涉仪测量系统非正交性的新方法期刊论文 OAI收割中国激光, 2007, 卷号: 34, 期号: 8, 页码: 1130, 1135 何乐; 王向朝; 马明英; 施伟杰; 王帆收藏 \| 浏览/下载：1050/157 \| 提交时间：2009/09/18 测量 measurement 激光干涉仪 interferometer 非正交性 non-orthogonality 光学对准 optic alignment 工件台 wafer stage 光刻机 lithographic tool
	一种测量光刻机工件台方镜不平度的新方法期刊论文 OAI收割中国激光, 2007, 卷号: 34, 期号: 4, 页码: 519, 524 何乐; 王向朝; 马明英收藏 \| 浏览/下载：1477/316 \| 提交时间：2009/09/18 测量干涉测量不平度方镜工件台光刻机 measurement interferometry non-flatness mirror wafer stage lithographic tool
	一种步进扫描投影光刻机承片台不平度检测新技术期刊论文 OAI收割光学学报, 2007, 卷号: 27, 期号: 7, 页码: 1205, 1210 何乐; 王向朝; 王帆; 施伟杰; 马明英收藏 \| 浏览/下载：710/152 \| 提交时间：2009/09/18 测量与计量 measurement and metrology 不平度检测 non-flatness measurement 承片台 wafer chuck 调平调焦 leveling control 最小二乘 least square method 光刻机 lithographic tool
	A novel method for measuring the coma of a lithographic projection system by use of mirror-symmetry marks 期刊论文 OAI收割 opt. laser technol., 2007, 卷号: 39, 期号: 5, 页码: 922, 925 Zhang Dongqing; 王向朝; Shi Weijie; Wang Fan 收藏 \| 浏览/下载：1609/517 \| 提交时间：2009/09/18 coma projection system lithographic tool
	一种新的光刻机像质参数热漂移检测技术期刊论文 OAI收割中国激光, 2005, 卷号: 32, 期号: 12, 页码: 1668, 1672 张冬青; 王向朝; 施伟杰; 马明英; 王帆收藏 \| 浏览/下载：1353/253 \| 提交时间：2009/09/18 测量 measurement 最佳焦面热漂移 thermal drift of best focus 放大倍率热漂移 thermal drift of magnification 投影物镜 projection lens 光刻机 lithographic tool 原位检测 in-situ measurement