机构

• 新疆天文台 [1]
• 上海技术物理研究所 [1]
• 合肥物质科学研究院 [1]

采集方式

• OAI收割 [3]

内容类型

• 期刊论文 [3]

发表日期

• 2020 [1]
• 2013 [2]

学科主题

筛选

浏览/检索结果: 共3条，第1-3条 帮助 条数/页： 5101520253035404550556065707580859095100 排序方式： 请选择题名升序题名降序提交时间升序提交时间降序作者升序作者降序发表日期升序发表日期降序 Effects of Ion Energy and Density on the Plasma Etching-Induced Surface Area, Edge Electrical Field, and Multivacancies in MoSe2 Nanosheets for Enhancement of the Hydrogen Evolution Reaction 期刊论文  OAI收割 SMALL, 2020 作者:  Xiao, Dezhi;  Ruan, Qingdong;  Bao, De-Liang;  Luo, Yang;  Huang, Chao   |  收藏  |  浏览/下载：44/0  |  提交时间：2020/11/26 edge electric field  etched through-holes  hydrogen evolution reaction  multivacancies  plasma simulation  plasma-induced damage   The size effects of inclusions on laser induced film damage 期刊论文  OAI收割 JOURNAL OF OPTOELECTRONICS AND ADVANCED MATERIALS, 2013, 卷号: 15, 期号: 9-10, 页码: 943-947 作者:  Han, Jinghua;  Li, Yaguo;  Fan, Weixing;  He, Changtao;  Wang, Pingqiu 收藏  |  浏览/下载：26/0  |  提交时间：2015/05/28 Laser-induced damage  Inclusion  Thermal effect  Scattering  Laser plasma   Investigations on a Multiple Mask Technique to Depress Processing-Induced Damage of ICP-Etched HgCdTe Trenches 期刊论文  OAI收割 J. Electron. Mater, 2013, 卷号: 42, 期号: 11 Z.H. YE; W.D. HU; W. LEI; W. LU; L. HE; L. YANG; P. ZHANG; Y. HUANG; C. LIN; C.H. SUN; X.N. HU; R.J. DING; X.S. CHEN 收藏  |  浏览/下载：23/0  |  提交时间：2014/11/11 Mercury cadmium telluride (HgCdTe)  processing-induced side-wall damage  inductively coupled plasma (ICP)  high etching selectivity