中国科学院机构知识库网格
Chinese Academy of Sciences Institutional Repositories Grid
机构
采集方式
内容类型
  • 专利 [32]
发表日期
学科主题
筛选

浏览/检索结果: 共32条,第1-10条 帮助

限定条件    
条数/页: 排序方式:
Ce:YAG/Al2O3 COMPOSITES FOR LASER-EXCITED SOLID-STATE WHITE LIGHTING 专利  OAI收割
专利号: US20190264100A1, 申请日期: 2019-08-29, 公开日期: 2019-08-29
作者:  
COZZAN, CLAYTON J.;  DENBAARS, STEVEN P.;  SESHADRI, RAM
  |  收藏  |  浏览/下载:37/0  |  提交时间:2019/12/31
Multi-stage ramp-up annealing for frequency-conversion crystals 专利  OAI收割
专利号: US9413134, 申请日期: 2016-08-09, 公开日期: 2016-08-09
作者:  
DRIBINSKI, VLADIMIR;  CHUANG, YUNG-HO ALEX;  ARMSTRONG, J. JOSEPH
  |  收藏  |  浏览/下载:11/0  |  提交时间:2019/12/24
半导体器件及其制造方法 专利  OAI收割
专利号: US9012965, 申请日期: 2015-04-21, 公开日期: 2012-07-19
作者:  
罗军;  赵超
  |  收藏  |  浏览/下载:12/0  |  提交时间:2016/09/19
Laser annealing apparatus and laser annealing method 专利  OAI收割
专利号: US20150060421A1, 申请日期: 2015-03-05, 公开日期: 2015-03-05
作者:  
TAMI, YOSHIHARU;  SOGA, KAZUHIRO;  OGINO, YOSHIAKI
  |  收藏  |  浏览/下载:9/0  |  提交时间:2019/12/31
Method of forming p-type gallium nitride based semiconductor, method of forming nitride semiconductor device, and method of forming epitaxial wafer 专利  OAI收割
专利号: US8815621, 申请日期: 2014-08-26, 公开日期: 2014-08-26
作者:  
UENO, MASAKI;  YOSHIZUMI, YUSUKE;  NAKAMURA, TAKAO
  |  收藏  |  浏览/下载:10/0  |  提交时间:2019/12/24
Dual-loop control for laser annealing of semiconductor wafers 专利  OAI收割
专利号: US20140166632A1, 申请日期: 2014-06-19, 公开日期: 2014-06-19
作者:  
MCWHIRTER, JAMES T.;  GAINES, DAVID;  LEE, JOSEPH;  ZAMBON, PAULO
  |  收藏  |  浏览/下载:10/0  |  提交时间:2019/12/31
向沟道中引入应变的方法和使用该方法制作的器件 专利  OAI收割
专利号: US8748272, 申请日期: 2014-06-10, 公开日期: 2012-07-19
作者:  
徐秋霞;  殷华湘;  陈大鹏
  |  收藏  |  浏览/下载:12/0  |  提交时间:2015/05/28
Planarization of GaN by photoresist technique using an inductively coupled plasma 专利  OAI收割
专利号: US8257987, 申请日期: 2012-09-04, 公开日期: 2012-09-04
作者:  
MOUSTAKAS, THEODORE D.;  WILLIAMS, ADRIAN D.
  |  收藏  |  浏览/下载:8/0  |  提交时间:2019/12/24
Optical waveguide device and manufacturing method thereof 专利  OAI收割
专利号: US7361520, 申请日期: 2008-04-22, 公开日期: 2008-04-22
作者:  
WATANABE, SHINYA
  |  收藏  |  浏览/下载:6/0  |  提交时间:2019/12/24
Process for producing an epitaxial layer of gallium nitride 专利  OAI收割
专利号: US7118929, 申请日期: 2006-10-10, 公开日期: 2006-10-10
作者:  
FRAYSSINET, ERIC;  BEAUMONT, BERNARD;  FAURIE, JEAN-PIERRE;  GIBART, PIERRE
  |  收藏  |  浏览/下载:9/0  |  提交时间:2019/12/24