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合肥物质科学研究院 [5]
采集方式
OAI收割 [5]
内容类型
期刊论文 [5]
发表日期
2017 [5]
学科主题
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共5条,第1-5条
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发表日期:2017
专题:合肥物质科学研究院
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Tunable inverted gap in monolayer quasi-metallic MoS2 induced by strong charge-lattice coupling
期刊论文
OAI收割
NATURE COMMUNICATIONS, 2017, 卷号: 8
作者:
Yin, Xinmao
;
Wang, Qixing
;
Cao, Liang
;
Tang, Chi Sin
;
Luo, Xin
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提交时间:2018/08/16
Tunable inverted gap in monolayer quasi-metallic MoS2 induced by strong charge-lattice coupling
期刊论文
OAI收割
NATURE COMMUNICATIONS, 2017, 卷号: 8
作者:
Yin, Xinmao
;
Wang, Qixing
;
Cao, Liang
;
Tang, Chi Sin
;
Luo, Xin
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浏览/下载:28/0
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提交时间:2018/08/16
Interface chemistry and electronic structure of ALD-derived HfAlO/Ge gate stacks revealed by X-ray photoelectron spectroscopy
期刊论文
OAI收割
JOURNAL OF ALLOYS AND COMPOUNDS, 2017, 卷号: 716, 期号: 无, 页码: 1-6
作者:
He, Gang
;
Jiang, Shanshan
;
Li, Wendong
;
Zheng, Changyong
;
He, Huaxin
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浏览/下载:38/0
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提交时间:2018/05/25
High-k Gate Dielectric
Atomic-layer-deposition
Interface Stability
Phase Separation
Annealing Temperature
Modulation of interfacial and electrical properties of HfGdO/GaAs gate stacks by ammonium sulfide passivation and rapid thermal annealing
期刊论文
OAI收割
JOURNAL OF ALLOYS AND COMPOUNDS, 2017, 卷号: 704, 期号: 无, 页码: 322-328
作者:
Jiang, S. S.
;
He, G.
;
Liang, S.
;
Zhu, L.
;
Li, W. D.
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提交时间:2018/07/04
High-k Gate Dielectrics
Interface Chemistry
Xps Electrical Properties
Cmos Devices
Modulation of interfacial and electrical properties of ALD-derived HfAlO/Al2O3/Si gate stack by annealing temperature
期刊论文
OAI收割
JOURNAL OF ALLOYS AND COMPOUNDS, 2017, 卷号: 691, 期号: 无, 页码: 504-513
作者:
Gao, J.
;
He, G.
;
Liu, M.
;
Lv, J. G.
;
Sun, Z. Q.
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浏览/下载:18/0
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提交时间:2017/11/21
High-k Dielectric
Interface Thermal Stability
Atomic-layer-deposition
Band Alignment
Electrical Properties
Leakage Current Mechanism