中国科学院机构知识库网格
Chinese Academy of Sciences Institutional Repositories Grid
机构
采集方式
内容类型
发表日期
学科主题
筛选

浏览/检索结果: 共5条,第1-5条 帮助

条数/页: 排序方式:
Evaluation of openings in a dielectric layer 专利  OAI收割
专利号: US20060094136A1, 申请日期: 2006-05-04, 公开日期: 2006-05-04
作者:  
BORDEN, PETER G.;  LI, JIPING;  GENIO, EDGAR
  |  收藏  |  浏览/下载:21/0  |  提交时间:2019/12/31
Measuring a property of a layer in multilayered structure 专利  OAI收割
专利号: US6906801, 申请日期: 2005-06-14, 公开日期: 2005-06-14
作者:  
BORDEN, PETER G.;  LI, JIPING
  |  收藏  |  浏览/下载:13/0  |  提交时间:2019/12/23
Use of a coefficient of a power curve to evaluate a semiconductor wafer 专利  OAI收割
专利号: US6812717, 申请日期: 2004-11-02, 公开日期: 2004-11-02
作者:  
BORDEN, PETER G.;  NIJMEIJER, REGINA G.;  KLEMME, BEVERLY J.
  |  收藏  |  浏览/下载:18/0  |  提交时间:2019/12/23
Apparatus and method for measuring a property of a layer in a multilayered structure 专利  OAI收割
专利号: US20030164946A1, 申请日期: 2003-09-04, 公开日期: 2003-09-04
作者:  
BORDEN, PETER G.;  LI, JI PING
  |  收藏  |  浏览/下载:16/0  |  提交时间:2019/12/31
Apparatus and method for determining the active dopant profile in a semiconductor wafer 专利  OAI收割
专利号: EP1192444A1, 申请日期: 2002-04-03, 公开日期: 2002-04-03
作者:  
BORDEN, PETER, G.;  NIJMEIJER, REGINA, G.
  |  收藏  |  浏览/下载:20/0  |  提交时间:2019/12/31