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超深亚微米工艺条件下基于模型的光学邻近效应修正方法的研究 学位论文  OAI收割
博士, 上海微系统与信息技术研究所: 中国科学院上海微系统与信息技术研究所, 2009
朱亮
收藏  |  浏览/下载:151/0  |  提交时间:2012/03/06
超深亚微米工艺条件下基于模型的光学临近效应修正方法的研究 学位论文  OAI收割
博士: 中国科学院研究生院(上海微系统与信息技术研究所)  , 2009
朱亮
收藏  |  浏览/下载:47/0  |  提交时间:2012/03/06
193nm光刻散射条技术研究 期刊论文  OAI收割
微电子学, 2005, 卷号: 35, 期号: 4, 页码: 4,360-363
作者:  
康晓辉;  张立辉;  王德强;  范东升;  谢常青
  |  收藏  |  浏览/下载:20/0  |  提交时间:2010/05/26