机构

• 微电子研究所 [2]
• 高能物理研究所 [1]

采集方式

• OAI收割 [3]

内容类型

• 期刊论文 [3]

发表日期

• 2005 [1]
• 1997 [2]

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浏览/检索结果: 共3条，第1-3条 帮助 条数/页： 5101520253035404550556065707580859095100 排序方式： 请选择题名升序题名降序发表日期升序发表日期降序提交时间升序提交时间降序作者升序作者降序 0．5μm高速BiCMOS的工艺研究 期刊论文  OAI收割 微电子学与计算机, 2005, 卷号: 22, 期号: 1, 页码: 3，133-135 作者:  海潮和;  程超;  孙宝刚   |  收藏  |  浏览/下载：31/0  |  提交时间：2010/05/26 Bicmos工艺 Sic技术 Si3n4／sio2复合侧墙 超簿内基区   同步辐射X射线光刻实验研究 期刊论文  OAI收割 半导体技术, 1997, 期号: 6, 页码: 2，45-46 作者:  朱樟震;  谢常青   |  收藏  |  浏览/下载：17/0  |  提交时间：2010/05/25 同步辐射  X射线光刻  X射线掩模  侧墙工艺   同步辐射x射线光刻实验研究 期刊论文  OAI收割 半导体技术, 1997, 期号: 6, 页码: 2 作者:  谢常青;  陈梦真;  赵玲莉;  孙宝银;  韩敬东 收藏  |  浏览/下载：17/0  |  提交时间：2015/12/25 同步辐射x射线光刻  x射线掩模  侧墙工艺