机构

• 微电子研究所 [3]
• 上海微系统与信息技术... [1]

采集方式

• OAI收割 [4]

内容类型

• 期刊论文 [3]
• 学位论文 [1]

发表日期

• 2009 [1]
• 2006 [1]
• 2004 [1]
• 2003 [1]

学科主题

筛选

浏览/检索结果: 共4条，第1-4条 帮助 条数/页： 5101520253035404550556065707580859095100 排序方式： 请选择题名升序题名降序提交时间升序提交时间降序作者升序作者降序发表日期升序发表日期降序 相变存储器电子束曝光工艺研究与新结构制备 学位论文  OAI收割 博士: 中国科学院研究生院（上海微系统与信息技术研究所）  , 2009 吕士龙 收藏  |  浏览/下载：41/0  |  提交时间：2012/03/06 相变存储器  　电子束曝光  　混合光刻  　新结构  　新型绝热层　   光学和电子束曝光系统之间的匹配与混合光刻技术 期刊论文  OAI收割 半导体学报, 2006, 卷号: 27, 期号: 增刊, 页码: 1-6 作者:  陈宝钦;  刘明;  徐秋霞;  薛丽君;  李金儒   |  收藏  |  浏览/下载：59/0  |  提交时间：2010/05/26 微光刻技术  微纳米加工技术  电子束直写  匹配与混合光刻技术   用于100nm节点ArF准分子激光光刻的相移掩模技术 期刊论文  OAI收割 光电工程, 2004, 卷号: 31, 期号: 1, 页码: 1-4,39 作者:  陈宝钦;  冯伯儒;  张锦;  宗德蓉;  刘娟   |  收藏  |  浏览/下载：11/0  |  提交时间：2010/05/26 激光光刻技术  相移掩模  准分子光刻  无铬相移掩模  交替相移掩模  衰减相移掩模  混合相移掩模   纳米级电子束直写曝光的基础工艺 期刊论文  OAI收割 半导体学报, 2003, 卷号: 24, 期号: B05, 页码: 3，226-228 作者:  陆晶;  刘明;  陈宝钦;  王云翔;  龙世兵   |  收藏  |  浏览/下载：16/0  |  提交时间：2010/05/25 电子束光刻  混合光刻  邻近效应修正