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	PECVD裂解SiCl4低温快速沉积氢化纳米晶硅薄膜的研究学位论文 OAI收割博士, 北京: 中国科学院金属研究所, 2012 张林收藏 \| 浏览/下载：40/0 \| 提交时间：2013/04/12 等离子体增强化学气相沉积法氢化纳米硅薄膜微观结构 PECVD nc-Si:H film microstructure
	用等离子体增强化学气相沉积技术制备类金刚石碳薄膜的摩擦磨损性能研究期刊论文 OAI收割摩擦学学报, 2005, 卷号: 25, 期号: 4, 页码: 298-302 作者: 李红轩收藏 \| 浏览/下载：15/0 \| 提交时间：2014/03/03 等离子体增强化学气相沉积类金刚石碳薄膜结构摩擦磨损性能 PECVD DLC film structure friction and wear behavior
	Si衬底的氮化处理对ZnO薄膜质量的影响期刊论文 OAI收割光电子·激光, 2003, 期号: 08, 页码: 783-786 作者: 申德振收藏 \| 浏览/下载：17/0 \| 提交时间：2013/03/11 ZnO Si衬底氮化等离子增强化学气相沉积(PECVD)
	工艺参数对PECVD TiN镀层性能的影响期刊论文 OAI收割固体润滑, 1991, 卷号: 11, 期号: 1, 页码: 51-62 张平余; 刘洪; 丛秋滋; 张绪寿; 王秀娥; 顾则鸣收藏 \| 浏览/下载：25/0 \| 提交时间：2014/09/30 等离子体增强化学气相沉积 TiN镀层物理机械性能摩擦学性能晶体学特征沉积参数 plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD) TiN coating physic-mechanical properties tribological characteristic crystallinity deposition parameters