机构

• 近代物理研究所 [12]
• 金属研究所 [3]
• 半导体研究所 [2]
• 物理研究所 [1]
• 高能物理研究所 [1]

采集方式

• OAI收割 [18]
• iSwitch采集 [1]

内容类型

• 期刊论文 [14]
• 会议论文 [5]

发表日期

• 2017 [1]
• 2015 [1]
• 2013 [1]
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• 2009 [3]
• 2008 [1]
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学科主题

• Materials ... [1]
• 半导体物理 [1]

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浏览/检索结果: 共19条，第1-10条 帮助 条数/页： 5101520253035404550556065707580859095100 排序方式： 请选择题名升序题名降序提交时间升序提交时间降序作者升序作者降序发表日期升序发表日期降序 Research on External Electron Injection Technology in ECRIS 期刊论文  OAI收割 Nuclear Physics Review, 2017, 卷号: 34, 页码: 164-169 作者:  Zhao HY(赵环昱);  Tang C(唐城);  Qian C(钱程);  Sun LT(孙良亭);  Zhao HW(赵红卫)   |  收藏  |  浏览/下载：16/0  |  提交时间：2018/05/18 Ecr Plasma  Electron Gun  Injection Component  Magnetic Confinement  Resonant Surface   Status of Plasma Spectroscopy Method for CNS Hyper-ECR Ion Source at RIKEN 会议论文  OAI收割 作者:  Muto, Hideshi;  Ohshiro, Yukimitsu;  Yamaka, Shoichi;  Watanabe, Shin-ichi;  Oyaizu, Michihiro   |  收藏  |  浏览/下载：24/0  |  提交时间：2018/08/20 Grating monochromator  ECR plasma  Same q/m  Beam selection   Microwave Impedance Matching of A 2.45 GHz ECR Ion Source 期刊论文  OAI收割 Nuclear Physics Review, 2013, 卷号: 30, 页码: 32-37 作者:  Qian Cheng;  Chen Zhi;  Ma Hongyi;  Wu Qi;  Zhang Wenhui   |  收藏  |  浏览/下载：30/0  |  提交时间：2017/04/17 Ecr Ion Source  Plasma Impedance  Ridged Waveguide  Impedance Matching   Overview of the Shanghai EBIT 期刊论文  OAI收割 JOURNAL OF INSTRUMENTATION, 2010, 卷号: 5, 页码: 10 作者:  Fu, Y.;  Yao, K.;  Wei, B.;  Lu, D.;  Hutton, R.   |  收藏  |  浏览/下载：20/0  |  提交时间：2018/05/31 Ion sources (positive ions, negative ions, electron cyclotron resonance (ECR), electron beam (EBIS))  Plasma diagnostics - charged-particle spectroscopy  Ionization and excitation processes   Role of bias frequency in a dual electron cyclotron resonance-radio-frequency hybrid plasma 期刊论文  OAI收割 VACUUM, 2009, 卷号: 84, 页码: 348-351 作者:  Wang, L.;  Ke, B.;  Ni, T. L.;  Ding, F.;  Chen, M. D.   |  收藏  |  浏览/下载：21/0  |  提交时间：2018/05/31 Dual ECR-rf plasma  Simulation  Bias frequency   Effects of Substrate Temperature on the Growth of Polycrystalline Si Films Deposited with SiH(4)+Ar 期刊论文  OAI收割 Journal of Materials Science & Technology, 2009, 卷号: 25, 期号: 4, 页码: 489-491 H. Cheng; A. M. Wu; J. Q. Xiao; N. L. Shi; L. S. Wen 收藏  |  浏览/下载：23/0  |  提交时间：2012/04/13 Poly-Si films  ECR-PECVD  Substrate temperature  Ar-dilution  chemical-vapor-deposition  ar-diluted sih4  microcrystalline silicon  optical-properties  h films  plasma  pecvd  hydrogen  silane   Deposition of dense and smooth Ti films using ECR plasma-assisted magnetron sputtering 期刊论文  OAI收割 SURFACE & COATINGS TECHNOLOGY, 2009, 卷号: 203, 期号: 22, 页码: 3356-3360 作者:  Zhang, L;  Shi, LQ 收藏  |  浏览/下载：26/0  |  提交时间：2016/06/29 Ti thin film  Magnetron sputtering  ECR plasma   Effect of Ar on Polycrystalline Si Films Deposited by ECR-PECVD using SiH4 期刊论文  OAI收割 Journal of Materials Science & Technology, 2008, 卷号: 24, 期号: 5, 页码: 690-692 H. Cheng; A. M. Wu; N. L. Shi; L. S. Wen 收藏  |  浏览/下载：21/0  |  提交时间：2012/04/13 Ar flow rate  ECR-PECVD  Poly-Si  Thin Films  chemical-vapor-deposition  microcrystalline silicon  low-temperatures  plasma  growth  transition  hydrogen   Production of EUV power with SECRAL 会议论文  OAI收割 作者:  Zhao, Huan-Yu;  Zhao, Hong-Wei;  Sun, Liang-Ting;  Zhang, Xue-Zhen;  Sheng, Liu-Si   |  收藏  |  浏览/下载：15/0  |  提交时间：2018/08/20 EUV light source  ECR plasma  EUV power   Production of EUV power with SECRAL 会议论文  OAI收割 作者:  Zhao, Huan-Yu;  Zhao, Hong-Wei;  Sun, Liang-Ting;  Zhang, Xue-Zhen;  Sheng, Liu-Si   |  收藏  |  浏览/下载：25/0  |  提交时间：2018/08/20 EUV light source  ECR plasma  EUV power