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机构
上海微系统与信息技术... [2]
半导体研究所 [1]
采集方式
OAI收割 [3]
内容类型
期刊论文 [3]
发表日期
2011 [1]
2007 [1]
2006 [1]
学科主题
Physics, M... [2]
微电子学 [1]
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共3条,第1-3条
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Influence of high-dose nitrogen implantation on the positive charge density of the buried oxide of silicon-on-insulator wafers
期刊论文
OAI收割
acta physica sinica, 2011, 卷号: 60, 期号: 5, 页码: article no.56104
作者:
Yu F
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浏览/下载:105/6
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提交时间:2011/07/06
separation by oxygen implantation
buried oxide
nitrogen implantation
positive charge density
RADIATION HARDNESS
IMPLANTING NITROGEN
ION-IMPLANTATION
IMPROVEMENT
TECHNOLOGY
OXYGEN
LAYER
Effect of implantation of nitrogen into SIMOX buried oxide on its fixed positive charge density
期刊论文
OAI收割
ACTA PHYSICA SINICA, 2007, 卷号: 56, 期号: 9, 页码: 5446-5451
Zheng, ZS
;
Zhang, EX
;
Liu, ZL
;
Zhang, ZX
;
Li, N
;
Li, GH
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提交时间:2012/03/24
IMPLANTING NITROGEN
RADIATION HARDNESS
SOI TECHNOLOGIES
IMPROVEMENT
LAYER
ION
Improvement of total-dose irradiation hardness of silicon-on-insulator materials by modifying the buried oxide layer with ion implantation
期刊论文
OAI收割
CHINESE PHYSICS, 2006, 卷号: 15, 期号: 4, 页码: 792-797
Zhang, EX
;
Qian, C
;
Zhang, ZX
;
Lin, CL
;
Wang, X
收藏
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浏览/下载:24/0
  |  
提交时间:2012/03/24
IMPLANTING NITROGEN
RADIATION RESPONSE
THERMAL OXIDES
SIMOX
CHARGE
ELECTRON
OXYGEN
HOLE
TRANSISTORS
TECHNOLOGY