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物理研究所 [1]
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上海微系统与信息技术... [1]
半导体研究所 [1]
采集方式
OAI收割 [4]
内容类型
期刊论文 [4]
发表日期
2009 [2]
2004 [1]
2000 [1]
学科主题
Physics, F... [1]
半导体材料 [1]
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共4条,第1-4条
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Effects of Substrate Temperature on the Growth of Polycrystalline Si Films Deposited with SiH(4)+Ar
期刊论文
OAI收割
Journal of Materials Science & Technology, 2009, 卷号: 25, 期号: 4, 页码: 489-491
H. Cheng
;
A. M. Wu
;
J. Q. Xiao
;
N. L. Shi
;
L. S. Wen
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提交时间:2012/04/13
Poly-Si films
ECR-PECVD
Substrate temperature
Ar-dilution
chemical-vapor-deposition
ar-diluted sih4
microcrystalline silicon
optical-properties
h films
plasma
pecvd
hydrogen
silane
Smooth Surface Morphology of Hydrogenated Amorphous Silicon Film Prepared by Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition
期刊论文
OAI收割
PLASMA SCIENCE & TECHNOLOGY, 2009, 卷号: 11, 期号: 5, 页码: 569-575
Yan, X
;
Feng, F
;
Zhang, J
;
Wang, YL
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浏览/下载:22/0
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提交时间:2012/03/24
A-SI-H
THIN-FILMS
ION-BOMBARDMENT
LOW-TEMPERATURE
SILANE PLASMA
GROWTH
PECVD
DIFFUSION
ROUGHNESS
FREQUENCY
Impacts of hydrogen dilution on growth and optical properties of a-SiC : H films
期刊论文
OAI收割
SCIENCE IN CHINA SERIES E-ENGINEERING & MATERIALS SCIENCE, 2004, 卷号: 47, 期号: 3, 页码: 327
Hu, ZH
;
Liao, XB
;
Diao, HW
;
Kong, GL
;
Zeng, XB
;
Xu, YY
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提交时间:2013/09/17
SILANE-METHANE PLASMA
AMORPHOUS-SILICON
CARBIDE
Microstructures of microcrystalline silicon thin films prepared by hot wire chemical vapor deposition
期刊论文
OAI收割
thin solid films, 2000, 卷号: 360, 期号: 1-2, 页码: 205-212
Zhu M
;
Guo X
;
Chen G
;
Han H
;
He M
;
Sun K
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提交时间:2010/08/12
microstructures
microcrystalline silicon
hot wire chemical vapor deposition
AMORPHOUS-SILICON
HYDROGEN
PLASMA
SPECTRA
GROWTH
SILANE