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• 近代物理研究所 [1]

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• OAI收割 [1]

内容类型

• 期刊论文 [1]

发表日期

• 2022 [1]

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浏览/检索结果: 共1条，第1-1条 帮助 条数/页： 5101520253035404550556065707580859095100 排序方式： 请选择提交时间升序提交时间降序发表日期升序发表日期降序题名升序题名降序作者升序作者降序 Applying the plasma physical sputtering process to SRF cavity treatment: Simulation and Experiment Study 期刊论文  OAI收割 APPLIED SURFACE SCIENCE, 2022, 卷号: 574, 页码: 10 作者:  Zhu, Tongtong;  Luo, Didi;  Wu, Andong;  Tan, Teng   |  收藏  |  浏览/下载：84/0  |  提交时间：2022/01/12 SRF cavities  Plasma processing  Self-consistent model  Sputtering-yield probability distribution  IEDF