中国科学院机构知识库网格
Chinese Academy of Sciences Institutional Repositories Grid
首页
机构
成果
学者
登录
注册
登陆
×
验证码:
换一张
忘记密码?
记住我
×
校外用户登录
CAS IR Grid
机构
合肥物质科学研究院 [2]
力学研究所 [1]
近代物理研究所 [1]
采集方式
OAI收割 [4]
内容类型
期刊论文 [4]
发表日期
2022 [4]
学科主题
筛选
浏览/检索结果:
共4条,第1-4条
帮助
条数/页:
5
10
15
20
25
30
35
40
45
50
55
60
65
70
75
80
85
90
95
100
排序方式:
请选择
提交时间升序
提交时间降序
发表日期升序
发表日期降序
题名升序
题名降序
作者升序
作者降序
A RF plasma source with focused magnetic field for material treatment
期刊论文
OAI收割
PLASMA CHEMISTRY AND PLASMA PROCESSING, 2022
作者:
Zhang, L. P.
;
Chang, L.
;
Yuan, X. G.
;
Zhang, J. H.
;
Zhou, H. S.
  |  
收藏
  |  
浏览/下载:29/0
  |  
提交时间:2022/12/23
Helicon plasma
Focused magnetic field
IEDF
EEDF
Application of positive pulse to extract ions from HiPIMS ionization region
期刊论文
OAI收割
VACUUM, 2022, 卷号: 204, 页码: 11
作者:
Li, Liuhe
;
Gu, Jiabin
;
Xu Y(许亿)
;
Han, Mingyue
;
Bilek, MarcelaMilenaMarie
  |  
收藏
  |  
浏览/下载:21/0
  |  
提交时间:2022/12/20
High power impulse magnetron sputtering
(HiPIMS)
Ions extraction method
PIC-MCC simulation
Microscopic mechanism of ions extraction
The application of a helicon plasma source in reactive sputter deposition of tungsten nitride thin films
期刊论文
OAI收割
Plasma Science and Technology, 2022, 卷号: 24
作者:
YANG,Yan
;
JI,Peiyu
;
LI,Maoyang
;
YU,Yaowei
;
HUANG,Jianjun
  |  
收藏
  |  
浏览/下载:18/0
  |  
提交时间:2022/12/22
helicon wave plasma
reactive sputtering
tungsten nitride
plasma diagnosis
Applying the plasma physical sputtering process to SRF cavity treatment: Simulation and Experiment Study
期刊论文
OAI收割
APPLIED SURFACE SCIENCE, 2022, 卷号: 574, 页码: 10
作者:
Zhu, Tongtong
;
Luo, Didi
;
Wu, Andong
;
Tan, Teng
;
Guo, Hao
  |  
收藏
  |  
浏览/下载:84/0
  |  
提交时间:2022/01/12
SRF cavities
Plasma processing
Self-consistent model
Sputtering-yield probability distribution
IEDF