机构

• 金属研究所 [6]

采集方式

• OAI收割 [6]

内容类型

• 期刊论文 [5]
• 会议论文 [1]

发表日期

• 2003 [2]
• 2002 [1]
• 2001 [3]

学科主题

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浏览/检索结果: 共6条，第1-6条 帮助 条数/页： 5101520253035404550556065707580859095100 排序方式： 请选择题名升序题名降序发表日期升序发表日期降序提交时间升序提交时间降序作者升序作者降序 脉冲偏压电弧离子低温沉积TiN硬质薄膜的力学性能 期刊论文  OAI收割 金属学报, 2003, 期号: 5, 页码: 516-520 黄美东,孙超,林国强,董闯,闻立时 收藏  |  浏览/下载：15/0  |  提交时间：2012/04/12 电弧离子镀  低温沉积  脉冲偏压  TiN 薄膜   偏压对电弧离子镀薄膜表面形貌的影响机理 期刊论文  OAI收割 金属学报, 2003, 期号: 5, 页码: 510-515 黄美东,林国强,董闯,孙超,闻立时 收藏  |  浏览/下载：29/0  |  提交时间：2012/04/12 偏压  电弧离子镀  Tin薄膜  表面形貌   工艺参数对电弧离子镀膜过程中基体温度的影响 会议论文  OAI收割 首届中国热处理活动周学术会议, 北京, 2002-08-01 黄美东; 中国科学院金属研究所; 孙超; 闻立时; 林国强; 董闯 收藏  |  浏览/下载：30/0  |  提交时间：2013/08/21 工艺参数  电弧离子镀  基体温度  热电偶接触法   电弧离子镀基体沉积温度计算 期刊论文  OAI收割 金属热处理学报, 2001, 期号: 4, 页码: 75-80 黄美东,林国强,董闯,孙超,黄荣芳,闻立时 收藏  |  浏览/下载：12/0  |  提交时间：2012/04/12 计算  基体温度  电弧离子镀   负偏压在电弧离子镀沉积TiN/TiCN多层薄膜中的作用 期刊论文  OAI收割 金属热处理, 2001, 期号: 7, 页码: 17-20 黄美东,林国强,董闯,孙超,蒋长荣,黄荣芳,闻立时 收藏  |  浏览/下载：16/0  |  提交时间：2012/04/12 电弧离子镀  负偏压  多层薄膜   负偏压在电弧离子镀沉积TiN／TiCN多层薄膜中的作用 期刊论文  OAI收割 金属热处理, 2001, 卷号: 26.0, 期号: 007, 页码: 17-20 作者:  黄美东;  林国强;  董闯;  孙超;  蒋长荣   |  收藏  |  浏览/下载：17/0  |  提交时间：2021/02/02 电弧离子镀  负偏压  多层薄膜  氮化钛  碳氮化钛