中国科学院机构知识库网格
Chinese Academy of Sciences Institutional Repositories Grid
首页
机构
成果
学者
登录
注册
登陆
×
验证码:
换一张
忘记密码?
记住我
×
校外用户登录
CAS IR Grid
机构
半导体研究所 [4]
采集方式
OAI收割 [4]
内容类型
会议论文 [2]
期刊论文 [2]
发表日期
2006 [2]
2005 [2]
学科主题
半导体材料 [3]
微电子学 [1]
筛选
浏览/检索结果:
共4条,第1-4条
帮助
条数/页:
5
10
15
20
25
30
35
40
45
50
55
60
65
70
75
80
85
90
95
100
排序方式:
请选择
题名升序
题名降序
提交时间升序
提交时间降序
作者升序
作者降序
发表日期升序
发表日期降序
Homoepitaxial growth and characterization of 4H-SiC epilayers by low-pressure hot-wall chemical vapor deposition
会议论文
OAI收割
international conference on silicon carbide and related materials (icscrm 2005), pittsburgh, pa, sep 18-23, 2005
Sun, GS (Sun, Guosheng)
;
Ning, J (Ning, Jin)
;
Gong, QC (Gong, Quancheng)
;
Gao, X (Gao, Xin)
;
Wang, L (Wang, Lei)
;
Liu, XF (Liu, Xingfang)
;
Zeng, YP (Zeng, Yiping)
;
Li, JM (Li, Jinmin)
收藏
  |  
浏览/下载:106/29
  |  
提交时间:2010/03/29
homoepitaxial growth
low-pressure hot-wall CVD
structural and optical characteristics
intentional doping
Schottky barrier diodes
The ICP etching technology of 3C-SiC films
会议论文
OAI收割
international mems conference 2006, singapore, singapore, may 09-12, 2006
Ning J (Ning Jin)
;
Gong QC (Gong Quancheng)
;
Sun GS (Sun Guosheng)
;
Liu ZL (Liu Zhongli)
收藏
  |  
浏览/下载:31/3
  |  
提交时间:2011/07/15
LPCVD Growth of 3C-SiC on Si Mesas and SiO2/Si Substrates for MEMS Applications
期刊论文
OAI收割
人工晶体学报, 2005, 卷号: 34, 期号: 6, 页码: 982-985
作者:
LIU Xingfang
收藏
  |  
浏览/下载:16/0
  |  
提交时间:2010/11/23
Homoepitaxial Growth of 4H-SiC and Ti/4H-SiC SBDs
期刊论文
OAI收割
人工晶体学报, 2005, 卷号: 34, 期号: 6, 页码: 1006-1010
作者:
NING Jin
;
LIU Xingfang
收藏
  |  
浏览/下载:18/0
  |  
提交时间:2010/11/23