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机构
金属研究所 [6]
采集方式
OAI收割 [6]
内容类型
期刊论文 [5]
会议论文 [1]
发表日期
2009 [1]
2007 [5]
学科主题
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浏览/检索结果:
共6条,第1-6条
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掺杂浓度对中频反应磁控溅射制备Al_2O_3:Ce~(3+)薄膜发光性能的影响
期刊论文
OAI收割
真空, 2009, 期号: 2, 页码: 33-37
闫绍峰
;
骆红
;
廖国进
;
巴德纯
;
闻立时
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提交时间:2012/04/12
三氧化二铝薄膜
中频反应磁控溅射
掺杂浓度
光致发光
Ce
掺杂浓度对中频反应磁控溅射制备Al_2O_3:Ce~(3+)薄膜发光性能的影响
期刊论文
OAI收割
功能材料与器件学报, 2007, 期号: 6, 页码: 543-548
廖国进
;
巴德纯
;
闻立时
;
刘斯明
;
阎绍峰
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浏览/下载:20/0
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提交时间:2012/04/12
三氧化二铝薄膜
中频反应磁控溅射
掺杂浓度
光致发光
Ce
掺杂浓度对Al_2O_3:Ce~(3+)薄膜发光性能的影响
期刊论文
OAI收割
功能材料, 2007, 期号: 6, 页码: 872-875
廖国进
;
巴德纯
;
闻立时
;
刘斯明
;
阎绍峰
收藏
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浏览/下载:11/0
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提交时间:2012/04/12
三氧化二铝薄膜
磁控溅射
掺杂浓度
光致发光
Ce
中频反应磁控溅射法制备Al2O3:Ce3+发光薄膜工艺条件优化
会议论文
OAI收割
第八届真空冶金与表面工程学术会议, 沈阳, 2007-06-16
廖国进
;
巴德纯
;
闻立时
;
刘斯明
;
阎绍峰
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提交时间:2013/08/21
磁控溅射
三氧化二铝
发光薄膜
正交试验
中频反应磁控溅射技术
掺杂浓度对中频反应磁控溅射制备Al2O3:Ce^3+薄膜发光性能的影响
期刊论文
OAI收割
功能材料与器件学报, 2007, 卷号: 13.0, 期号: 006, 页码: 543-548
作者:
廖国进
;
巴德纯
;
闻立时
;
刘斯明
;
阎绍峰
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浏览/下载:14/0
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提交时间:2021/02/02
三氧化二铝薄膜
中频反应磁控溅射
掺杂浓度
光致发光
Ce
掺杂浓度对Al2O3:Ce^3+薄膜发光性能的影响
期刊论文
OAI收割
功能材料, 2007, 卷号: 38.0, 期号: 006, 页码: 872-875
作者:
廖国进
;
巴德纯
;
闻立时
;
刘斯明
;
阎绍峰
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提交时间:2021/02/02
三氧化二铝薄膜
磁控溅射
掺杂浓度
光致
发光
Ce