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机构
微电子研究所 [4]
采集方式
OAI收割 [4]
内容类型
期刊论文 [4]
发表日期
2008 [1]
2006 [1]
2005 [1]
2004 [1]
学科主题
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共4条,第1-4条
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Si3N4/SiO2叠层栅MOS电容抗辐照总剂量研究
期刊论文
OAI收割
核电子学与探测技术, 2008, 卷号: 28, 期号: 4, 页码: 4,754-756,777
作者:
蔡小五
;
海潮和
;
陆江
;
王立新
;
刘刚
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浏览/下载:14/0
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提交时间:2010/05/27
叠层栅
界面态电荷
氧化物俘获电荷
电容
高性能亚100nm栅长氮氧叠层栅介质难熔W/TiN金属栅电极CMOS器件
期刊论文
OAI收割
半导体学报, 2006, 卷号: 27, 期号: 3, 页码: 448-453
作者:
林钢
;
徐秋霞
;
周华杰
;
钟兴华
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浏览/下载:14/0
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提交时间:2010/05/26
等效氧化层厚度
氮氧叠层栅介质
W/tin金属栅
非cmp平坦化
超薄氮氧叠层栅介质的金属栅pMOS电容的电学特性
期刊论文
OAI收割
半导体学报, 2005, 卷号: 26, 期号: 4, 页码: 5,651-655
作者:
钟兴华
;
吴峻峰
;
杨建军
;
徐秋霞
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浏览/下载:17/0
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提交时间:2010/05/26
等效氧化层厚度
氮化硅/氮氧化硅复合叠层栅介质
高^
硼穿通
金属栅
恒压应力下超薄Si3N4/SiO2叠层栅介质与SiO2栅介质寿命比较
期刊论文
OAI收割
半导体学报, 2004, 卷号: 25, 期号: 12, 页码: 1717-1721
作者:
林钢
;
徐秋霞
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浏览/下载:13/0
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提交时间:2010/05/26
恒压应力
超薄si3n4/sio2
叠层栅介质
超薄sio2栅介质
栅介质寿命预测