机构

• 长春光学精密机械与物... [2]
• 光电技术研究所 [2]
• 微电子研究所 [1]
• 高能物理研究所 [1]

采集方式

• OAI收割 [6]

内容类型

• 期刊论文 [5]
• 学位论文 [1]

发表日期

• 2021 [1]
• 2015 [1]
• 2004 [2]
• 1997 [1]
• 1996 [1]

学科主题

筛选

浏览/检索结果: 共6条，第1-6条 帮助 条数/页： 5101520253035404550556065707580859095100 排序方式： 请选择题名升序题名降序发表日期升序发表日期降序提交时间升序提交时间降序作者升序作者降序 接近接触式光刻系统中的自动对准技术研究 学位论文  OAI收割 中国科学院光电技术研究所: 中国科学院大学, 2021 作者:  张绍宇   |  收藏  |  浏览/下载：35/0  |  提交时间：2021/06/16 接近接触式光刻  光刻对准  图像处理   基于接近式光刻机的掩模移动曝光对准系统设计 期刊论文  OAI收割 制造技术与机床, 2015, 期号: 8, 页码: 47-50 作者:  佟军民;  胡松 收藏  |  浏览/下载：25/0  |  提交时间：2016/11/23 掩模移动曝光技术  接近式光刻机  对准系统  对准精度   X射线光刻技术应用现状与前景 期刊论文  OAI收割 核技术, 2004, 卷号: 27, 期号: 12, 页码: 904-908 作者:  叶甜春;  谢常青;  陈大鹏;  刘明;  伊福廷   |  收藏  |  浏览/下载：19/0  |  提交时间：2010/05/26 接近式x射线光刻  纳米电子学  单片微波集成电路  硅基超大规模集成电路   X射线光刻技术应用现状与前景 期刊论文  OAI收割 核技术, 2004, 期号: 12, 页码: 904-908 作者:  谢常青;  陈大鹏;  刘明;  叶甜春;  伊福廷 收藏  |  浏览/下载：16/0  |  提交时间：2015/12/25 接近式X射线光刻  纳米电子学  单片微波集成电路  硅基超大规模集成电路   接近式光刻刻划间隙的确定 期刊论文  OAI收割 仪器仪表学报, 1997, 期号: 04, 页码: 81-84+97 付永启 收藏  |  浏览/下载：17/0  |  提交时间：2013/03/11 刻划间隙:7286  接近式光刻:5937  刻线质量:2182  线密度:1418  光强度分布:1194  菲涅耳衍射:1113  掩模板:949  衍射效应:715  泰伯效应:634  定量分析:622   接近式光刻中刻划间隙对刻线质量的影响分析 期刊论文  OAI收割 光学精密工程, 1996, 期号: 05, 页码: 112-116 付永启; 朱应时 收藏  |  浏览/下载：5/0  |  提交时间：2013/03/11 接近式光刻  刻划间隙  刻线质量