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学科主题
光学薄膜 [4]
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氧分压对固体氧化物电解池性能的影响(英文)
期刊论文
OAI收割
物理化学学报, 2019, 卷号: 35, 期号: 03, 页码: 284-291
作者:
侯权
;
关成志
;
肖国萍
;
王建强
;
朱志远
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浏览/下载:14/0
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提交时间:2020/10/19
固体氧化物电解池
界面
氧分压
理论模型
计算流体动力学模拟
高温固体氧化物电解池模拟分析
学位论文
OAI收割
中国科学院大学(中国科学院上海应用物理研究所): 中国科学院大学(中国科学院上海应用物理研究所), 2018
作者:
侯权
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浏览/下载:194/0
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提交时间:2019/12/24
高温固体氧化物电解池
计算流体力学模型
氧分压
电解池结构尺寸
积碳
氧、氩分压对直流反应溅射制备ZAO薄膜的性能影响
会议论文
OAI收割
第九届全国光电技术学术交流会, 北京, 2010-05
陆峰
;
徐成海
;
闻立时
;
吴玉厚
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浏览/下载:22/0
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提交时间:2013/08/21
ZAO薄膜
直流反应溅射
氧分压
氩分压
用La2MoWO9作固体电解质的极限电流型氧传感器
期刊论文
OAI收割
电子元件与材料, 2009, 卷号: 028
作者:
李丹
;
李相虎
;
方前锋
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浏览/下载:19/0
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提交时间:2020/11/23
氧传感器
固体电解质
极限电流
氧分压
在不同环境条件下HfO2/SiO2膜堆的应力变化
学位论文
OAI收割
硕士, 光电技术研究所: 中国科学院光电技术研究所, 2008
张丽莎
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浏览/下载:107/0
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提交时间:2013/11/19
光学薄膜
电子束蒸发
残余应力
氧分压
有限元分析
在不同环境条件下HfO2/SiO2膜堆的应力变化
学位论文
OAI收割
: 中国科学院研究生院, 2008
-
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浏览/下载:23/0
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提交时间:2016/11/06
光学薄膜
电子束蒸发
残余应力
氧分压
有限元分析
不同氧分压下电子束蒸发氧化锆薄膜的特性
期刊论文
OAI收割
光电工程, 2006, 卷号: 33, 期号: 6, 页码: 37
张东平
;
邵淑英
;
黄建兵
;
占美琼
;
范正修
;
邵建达
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浏览/下载:819/105
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提交时间:2009/09/22
氧化锆薄膜
氧分压
表面迁移率
薄膜特性
氧分压对电子束蒸发SiO2薄膜机械性质和光学性质的影响
期刊论文
OAI收割
光子学报, 2005, 卷号: 34, 期号: 5, 页码: 742, 745
邵淑英
;
范正修
;
邵建达
;
沈卫星
;
江敏华
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浏览/下载:871/134
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提交时间:2009/09/22
SiO2薄膜
SiO_2 films
氧分压
Oxygen partial pressure
残余应力
Residual stress
表面形貌
Surface morphology
折射率
Refractive index
电子束蒸发
Electron beam evaporation
氧分压对ZrO2薄膜激光损伤阈值的影响
期刊论文
OAI收割
强激光与粒子束, 2005, 卷号: 17, 期号: 1, 页码: 9, 12
张东平
;
赵元安
;
范树海
;
高卫东
;
邵建达
;
范正修
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浏览/下载:1006/127
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提交时间:2009/09/22
ZrO2薄膜
ZrO_2 films
氧分压
Oxygen partial pressure
激光损伤阈值
Laser induced damage threshold (LIDT)
电子束热蒸发
Electron beam evaporation
沉积参量及时效时间对SiO2薄膜残余应力的影响
期刊论文
OAI收割
光学学报, 2005, 卷号: 25, 期号: 1, 页码: 126, 130
邵淑英
;
田光磊
;
范正修
;
邵建达
收藏
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浏览/下载:943/155
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提交时间:2009/09/22
薄膜光学
thin film optics
SiO2薄膜
SiO2 films
残余应力
residual stress
沉积温度
deposition temperature
氧分压
oxygen partial pressure
时效
aging