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	薄膜宏观应力的微观表征方法研究学位论文 OAI收割硕士: 中国科学院上海光学精密机械研究所, 2013 作者: 蔺玲收藏 \| 浏览/下载：19/0 \| 提交时间：2016/11/28 二氧化铪薄膜，残余应力，弹性常数，微观表征，掠入射X射线衍射
	高性能氧化铪薄膜的研究学位论文 OAI收割硕士: 中国科学院上海光学精密机械研究所, 2010 作者: 刘丰收藏 \| 浏览/下载：18/0 \| 提交时间：2016/11/28 氧化铪薄膜光学性能激光损伤阈值电子束沉积离子束技术
	离子束辅助反应制备的氧化铪薄膜特性期刊论文 OAI收割强激光与粒子束, 2007, 卷号: 19, 期号: 12, 页码: 2087 王聪娟; 晋云霞; 邵建达; 范正修收藏 \| 浏览/下载：886/173 \| 提交时间：2009/09/22 薄膜 Thin film 氧化铪 Hafnium oxide 离子束辅助 Ion-assisted deposition 反应沉积 Reactive deposition
	两种后处理方法对HfO2薄膜性能的影响期刊论文 OAI收割光子学报, 2007, 卷号: 36, 期号: 9, 页码: 1683, 1686 尚光强; 王聪娟; 袁磊; 贺洪波; 范正修; 邵建达收藏 \| 浏览/下载：977/192 \| 提交时间：2009/09/22 氧化铪薄膜薄膜退火抗激光损伤阂值薄膜吸收
	HfO_2/Si(001)界面层的TEM研究期刊论文 OAI收割电子显微学报, 2006, 期号: S1, 页码: 95-96 卓木金; 马秀良收藏 \| 浏览/下载：17/0 \| 提交时间：2012/04/12 界面层厚度:7807 栅介质层:3216 相对介电常数:2195 薄膜:2048 二氧化硅:1902 氧化铪:1889 透射电子显微镜:1813 等效厚度:1778 退火温度:1778 化学成分:1696
	HfO2薄膜的结构对抗激光损伤阈值的影响期刊论文 OAI收割光子学报, 2005, 卷号: 34, 期号: 2, 页码: 176, 179 高卫东; 张伟丽; 范树海; 张大伟; 邵建达; 范正修收藏 \| 浏览/下载：695/129 \| 提交时间：2009/09/22 铪 HfO_2 Film 氧化铪 Laser-induced damage threshold 薄膜激光损伤阈值
	基因芯片在差异表达研究中测定影响因素的初步探讨期刊论文 OAI收割南通医学院学报, 2004, 期号: 02 冒海蕾; 崔之础; 施健; 鞠少卿; 张冬雷; 王惠民; 毛红菊; 赵建龙收藏 \| 浏览/下载：18/0 \| 提交时间：2012/01/06 SOI材料氧化铪薄膜
	用IBED方法在SOI上制备高质量的氧化铪薄膜会议论文 OAI收割第十三届全国半导体集成电路、硅材料学术会, 2003 邢玉梅; 陶凯; 俞跃辉; 宋朝瑞; 郑志宏收藏 \| 浏览/下载：49/0 \| 提交时间：2012/01/18 IBED方法 SOI 氧化铪薄膜离子束辅助增强沉积系统 X射线衍射技术电介质绝缘性能