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	硅的电化学深刻蚀技术会议论文 OAI收割第十三届全国电子束、离子束、光子束学术年会, 2005 王连卫; 吴俊徐; 陈瑜收藏 \| 浏览/下载：40/0 \| 提交时间：2012/01/18 硅衬底电化学深刻蚀传感器深反应离子刻蚀阳极氧化微纳米通道
	硅基MEMS技术期刊论文 OAI收割机械强度, 2001, 卷号: 23, 期号: 4, 页码: 523-526 作者: 郝一龙收藏 \| 浏览/下载：1993/179 \| 提交时间：2010/05/03 微电子机械系统牺牲层体硅工艺深刻蚀
	SF_6／CCl_2F_2反应离子深刻蚀硅中加O_2的研究期刊论文 OAI收割微细加工技术, 1994, 期号: 04 姜建东; 孙承龙; 王渭源; 王德宁收藏 \| 浏览/下载：22/0 \| 提交时间：2012/03/29 K1 反应离子刻蚀各向异性深刻蚀硅聚合物掩蔽膜蚀刻速率蚀刻形貌
	反应离子深刻蚀的模型模拟与深刻蚀的工艺研究学位论文 OAI收割硕士: 中国科学院研究生院（上海冶金研究所） , 1993 姜建东收藏 \| 浏览/下载：29/0 \| 提交时间：2012/03/06 反应离子深刻蚀模型模拟深刻蚀硅工艺