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OAI收割 [15]
内容类型
期刊论文 [10]
学位论文 [5]
发表日期
2019 [1]
2014 [1]
2013 [1]
2012 [1]
2009 [3]
2006 [3]
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学科主题
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共15条,第1-10条
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InAs/GaSb Ⅱ类超晶格台面的ICP刻蚀研究
期刊论文
OAI收割
红外与毫米波学报, 2019, 卷号: 38, 期号: 2, 页码: 171-174
作者:
许佳佳
;
黄敏
;
徐庆庆
;
徐志成
;
王芳芳
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浏览/下载:44/0
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提交时间:2019/11/13
电感耦合等离子
刻蚀
InAs/GaSb Ⅱ类超晶格
焦平面
毕业论文 基于光子晶体慢光效应的光放大和激光器件研究
学位论文
OAI收割
博士, 北京, 北京: 中国科学院研究生院, 中国科学院研究生院, 2014, 2014
作者:
齐爱谊
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浏览/下载:117/0
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提交时间:2014/06/11
光子晶体
慢光效应
LiNbO3
感应耦合等离子体刻蚀
半导体光放大器
带边模
面发射激光器
光子晶体
慢光效应
Linbo3
感应耦合等离子体刻蚀
半导体光放大器
带边模
面发射激光器
ICP刻蚀InGaAs的微观损伤机制研究
期刊论文
OAI收割
红外与激光工程, 2013, 卷号: 42, 期号: 8
作者:
程吉凤
;
朱耀明
;
唐恒敬
;
李雪
;
邵秀梅
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浏览/下载:21/0
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提交时间:2014/11/05
感应耦合等离子体
铟镓砷
Raman光谱
Xrd
刻蚀损伤
ICP刻蚀GaN侧壁倾角以及刻蚀速率的控制
期刊论文
OAI收割
固体电子研究与进展, 2012, 卷号: 32, 期号: 3
作者:
黄伟
;
蔡勇
;
张宝顺
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提交时间:2013/01/22
电感耦合等离子体
刻蚀
氮化镓
侧壁倾角
射频功率
光子晶体的制备及光学性质研究
学位论文
OAI收割
: 中国科学院研究生院, 2009
作者:
张建标
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浏览/下载:25/0
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提交时间:2012/08/14
光子晶体
光子带隙
平面波展开
耦合等离子刻蚀
金属介质球
多重散射
超强透射
非线性
传输矩阵
短波红外InGaAs探测器的台面成型技术研究
学位论文
OAI收割
: 中国科学院研究生院, 2009
作者:
宁锦华
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浏览/下载:32/0
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提交时间:2012/08/22
由于ingaas 短波红外探测器具有可以室温工作
探测率高等优点
Ingaas线列红外焦平面在国外已经成功用于空间遥感。本论文主要围绕台面结构的ingaas探测器制备的台面成型工艺展开研究
重点研究了感应耦合等离子体刻蚀(icp)台面成型工艺。同时利用不同的台面成型方式制备ingaas探测器
通过最终性能的比较
评价得出较好的台面成型方式
为ingaas红外焦平面的研制提供工艺参考。取得结果如下:icp刻蚀中掩膜的材料致密性
侧壁粗糙度和垂直度等对刻蚀效果具有至关重要的影响。为了使刻蚀残留物挥发掉
铟基材料的刻蚀需要对样品加热
在此温度下
光刻胶掩膜会碳化。对于ingaas材料来说
采用pecvd生长sinx
选择边缘平整的光刻板
用sf6 Rie刻蚀sinx后用hf:nh4f:h2o为3:6:10的溶液常温腐蚀6秒
可以实现垂直光滑的刻蚀端面。ch4/cl2刻蚀铟基材料表面光洁无残留物
但对于制备2µm左右台面深度的延伸波长ingaas探测器
平均刻蚀速率过快
同时钻蚀略大了些。ar气和n2能加速cl2的分离
提高刻蚀速率
相比较ar气
N2的物理轰击力小
对材料造成的损伤小
同时在刻蚀过程中n2能和材料中的si发生反应生成sinx
在材料表面产生钝化。用cl2/n2作为刻蚀气体对ingaas探测器进行台面成型
能得到刻蚀速率稳定可控
刻蚀后的表面光洁无残留物
图形保真度好。在不同的直流偏压
Icp功率
气体总流量和气体组分等参数下进行台面成型
并从刻蚀速率
刻蚀垂直度
刻蚀表面粗糙度等几个方面对刻蚀质量做了评估和分析。在摸清铟基材料刻蚀规律的基础上
找到了可用于常规波长和延伸波长ingaas探测器制备的icp刻蚀参数。icp刻蚀与湿法腐蚀台面成型的八元台面器件具有相同的性能。但是在器件性能相当的情况下
Icp具有图形保真度好
刻蚀速率稳定可控的优点
因而更适用于ingaas探测器的工程制作
特别在小光敏元探测器的制备中
Icp的优势将更明显。
平滑陡直的Si深槽刻蚀方法
期刊论文
OAI收割
半导体技术, 2009, 卷号: 34, 期号: 3, 页码: 4,214-216,220
作者:
张育胜
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提交时间:2010/06/01
硅深槽刻蚀
电感耦合等离子体bosch工艺
化学平衡
AMC7820在微流控芯片电泳系统中的应用
期刊论文
OAI收割
现代科学仪器, 2006, 期号: 02
朱海兵
;
金庆辉
;
张华
;
刘菁
;
庄贵生
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提交时间:2012/01/06
干法刻蚀
感应耦合等离子体
GaN
刻蚀速率
Cl_2/He
Cl_2/Ar
GaN的刻蚀、P型欧姆接触以及LED的研究
学位论文
OAI收割
硕士: 中国科学院研究生院(上海微系统与信息技术研究所) , 2006
刘北平
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提交时间:2012/03/06
氮化镓
发光二极管
干法刻蚀
感应耦合等离子体
P型欧姆接触
深刻蚀高密度熔融石英光栅
期刊论文
OAI收割
中国激光, 2006, 卷号: 33, 期号: 2, 页码: 175, 178
王顺权
;
周常河
;
茹华一
;
张妍妍
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提交时间:2009/09/18
光栅
深刻蚀
感应耦合等离子体
熔融石英