机构

• 上海光学精密机械研究... [3]
• 光电技术研究所 [1]
• 中国科学院大学 [1]

采集方式

• OAI收割 [4]
• iSwitch采集 [1]

内容类型

• 期刊论文 [4]
• 学位论文 [1]

发表日期

• 2011 [1]
• 2009 [1]
• 2007 [2]

学科主题

• 光学工程 [1]

筛选

浏览/检索结果: 共5条，第1-5条 帮助 条数/页： 5101520253035404550556065707580859095100 排序方式： 请选择题名升序题名降序提交时间升序提交时间降序作者升序作者降序发表日期升序发表日期降序 Experimental analysis of solid immersion interference lithography based on backside exposure technique 期刊论文  OAI收割 MICROELECTRONIC ENGINEERING, 2011, 卷号: 88, 期号: 8, 页码: 2509-2512 作者:  Li, Xupeng;  Shi, Sha;  Zhang, Zhiyou;  Wang, Jingquan;  Li, Shuhong 收藏  |  浏览/下载：19/0  |  提交时间：2015/09/21 Solid immersion  Interference lithography  Backside exposure technique   Impact of polarized illumination on high NA imaging in ArF immersion lithography at 45 nm node 期刊论文  OAI收割 optik, 2009, 卷号: 120, 期号: 7, 页码: 325, 329 Yuan Qiongyan; 王向朝; Qiu Zicheng 收藏  |  浏览/下载：1362/237  |  提交时间：2009/09/18 Immersion lithography  Polarized illumination  Normalized image log slope  Exposure defocus window   Effect of resolution enhancement techniques on aberration sensitivities of arf immersion lithography at 45 mn node 期刊论文  iSwitch采集 Japanese journal of applied physics part 1-regular papers brief communications & review papers, 2007, 卷号: 46, 期号: 5a, 页码: 2936-2940 作者:  Li, Yanqiu;  Zhang, Fei 收藏  |  浏览/下载：41/0  |  提交时间：2019/05/10 Immersion lithography  Resolution enhanced technology (ret)  Polarization  Phase shift mask  Aberration sensitivity   国际主流光刻机研发的最新进展 期刊论文  OAI收割 激光与光电子学进展, 2007, 卷号: 44, 期号: 1, 页码: 57, 64 袁琼雁; 王向朝 收藏  |  浏览/下载：1082/153  |  提交时间：2009/09/18 光刻机  双工件台技术  偏振光照明  折反式物镜  浸没式光刻  下一代光刻  lithographic tools  dual -stage technology  polarized illumination  catadioptric lens  immersion lithography  next generation lithography   浸没式光刻机投影物镜波像差检测技术研究 学位论文  OAI收割 作者:  诸波尔   |  收藏  |  浏览/下载：158/0  |  提交时间：2018/12/26 浸没式光刻机  Immersion lithography tool  投影物镜  Projection lens  波像差检测  Wavefront aberration measurement  空间像  Aerial image  主成分分析  Principal component analysis (PCA)