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机构
物理研究所 [4]
半导体研究所 [1]
采集方式
OAI收割 [5]
内容类型
期刊论文 [5]
发表日期
2010 [1]
2000 [1]
1998 [1]
1997 [2]
学科主题
半导体材料 [1]
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浏览/检索结果:
共5条,第1-5条
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High-resolution electron microscopy of misfit dislocations in AlSb/GaAs (001) system
期刊论文
OAI收割
ACTA PHYSICA SINICA, 2010, 卷号: 59, 期号: 3, 页码: 1928
Wen, C
;
Li, FH
;
Zou, J
;
Chen, H
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浏览/下载:35/0
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提交时间:2013/09/17
IMAGE DECONVOLUTION
SIGE/SI HETEROSTRUCTURES
LOMER DISLOCATION
CORE STRUCTURE
INTERFACE
CONFIGURATION
DISSOCIATION
CRYSTALS
LATTICE
GROWTH
Relaxed GexSi1-x layer formation with reduced dislocation density grown by ultrahigh vacuum chemical vapor deposition
期刊论文
OAI收割
applied physics a-materials science & processing, 2000, 卷号: 70, 期号: 4, 页码: 449-451
Luo GL
;
Chen PY
;
Lin XF
;
Tsien P
;
Fan TW
收藏
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浏览/下载:65/0
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提交时间:2010/08/12
MOLECULAR-BEAM EPITAXY
HIGH-ELECTRON-MOBILITY
BUFFER LAYER
SI/SIGE HETEROSTRUCTURES
SI
TEMPERATURE
SILANE
FILMS
Relaxed Ge0.9Si0.1 alloy layers with low threading dislocation densities grown on low-temperature Si buffers
期刊论文
OAI收割
APPLIED PHYSICS LETTERS, 1998, 卷号: 72, 期号: 24, 页码: 3160
Peng, CS
;
Zhao, ZY
;
Chen, H
;
Li, JH
;
Li, YK
;
Guo, LW
;
Dai, DY
;
Huang, Q
;
Zhou, JM
;
Zhang, YH
;
Sheng, TT
;
Tung, CH
收藏
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提交时间:2013/09/24
MOLECULAR-BEAM EPITAXY
SI/SIGE HETEROSTRUCTURES
SURFACE-MORPHOLOGY
STRAIN RELAXATION
FILMS
Relaxed Si0.7Ge0.3 layers grown on low-temperature Si buffers with low threading dislocation density
期刊论文
OAI收割
APPLIED PHYSICS LETTERS, 1997, 卷号: 71, 期号: 21, 页码: 3132
Li, JH
;
Peng, CS
;
Wu, Y
;
Dai, DY
;
Zhou, JM
;
Mai, ZH
收藏
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浏览/下载:14/0
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提交时间:2013/09/24
MOLECULAR-BEAM EPITAXY
SI/SIGE HETEROSTRUCTURES
MOBILITY
FILMS
Strain relaxation in high electron mobility Si1-xGex/Si structures
期刊论文
OAI收割
JOURNAL OF APPLIED PHYSICS, 1997, 卷号: 82, 期号: 6, 页码: 2881
Li, JH
;
Holy, V
;
Bauer, F
;
Schaffler, F
收藏
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提交时间:2013/09/24
SIGE THIN-FILMS
MISFIT DISLOCATIONS
SI/SIGE HETEROSTRUCTURES
EPITAXIAL LAYERS
NUCLEATION
SCATTERING
EVOLUTION
PATTERN