机构

• 金属研究所 [3]
• 沈阳自动化研究所 [1]
• 合肥物质科学研究院 [1]
• 西安光学精密机械研究... [1]
• 兰州化学物理研究所 [1]

采集方式

• OAI收割 [7]

内容类型

• 期刊论文 [7]

发表日期

• 2021 [1]
• 2016 [2]
• 2012 [1]
• 2011 [2]
• 1998 [1]

学科主题

• physics, f... [1]
• 材料科学与物理化学 [1]

筛选

浏览/检索结果: 共7条，第1-7条 帮助 条数/页： 5101520253035404550556065707580859095100 排序方式： 请选择题名升序题名降序提交时间升序提交时间降序作者升序作者降序发表日期升序发表日期降序 A Novel Method for Eliminating Residual Voltage in a Resolver with Signal Fitting Implementation 期刊论文  OAI收割 IEEE Sensors Journal, 2021, 卷号: 21, 期号: 3, 页码: 2775-2782 作者:  Wang W(王伟);  Chen, Jiangcheng;  Bi S(毕盛)   |  收藏  |  浏览/下载：34/0  |  提交时间：2021/01/24 Parameter estimation  residual voltage  resolver   Influence of Driving Frequency on the Argon Dielectric Barrier Discharge Excited by Gaussian Voltage at Atmospheric Pressure 期刊论文  OAI收割 ieee transactions on plasma science, 2016, 卷号: 44, 期号: 11, 页码: 2553-2563 作者:  Xu, Yonggang;  Jiang, Weiman;  Tang, Jie;  Zhu, Sha;  Wang, Yishan 收藏  |  浏览/下载：44/0  |  提交时间：2016/12/23 Argon dielectric barrier discharge (DBD)  driving frequency  Gaussian voltage  mode transition  residual current peak   Estimation of the current driven by residual loop voltage in LHCD plasma on EAST Tokamak 期刊论文  OAI收割 PLASMA PHYSICS AND CONTROLLED FUSION, 2016, 卷号: 58, 期号: 2, 页码: 025002 作者:  Zhang, X. M.;  Yu, L. M.;  Wan, B. N.;  Xue, E. B.;  Fang, Y. 收藏  |  浏览/下载：22/0  |  提交时间：2017/07/20 Residual Loop Voltage  Hot Electrical Conductivity  Lhcd   Study on nanocrystalline Cr2O3 films deposited by arc ion plating: I. composition, morphology, and microstructure analysis 期刊论文  OAI收割 Surface & Coatings Technology, 2012, 卷号: 206, 期号: 10, 页码: 2629-2637 T. G. Wang; D. Jeong; S. H. Kim; Q. Wang; D. W. Shin; S. Melin; S. Iyengar; K. H. Kim 收藏  |  浏览/下载：20/0  |  提交时间：2013/02/05 Cr2O3 film  Arc ion plating  Bias voltage  Grain size  Surface  morphology  HRTEM  chromium-oxide coatings  pulsed-laser deposition  negative bias voltage  si-n coatings  thin-films  mechanical-properties  optical-properties  nitrogen pressure  vapor-deposition  residual-stress   Influence of substrate bias voltage on the microstructure and residual stress of CrN films deposited by medium frequency magnetron sputtering 期刊论文  OAI收割 Materials Science and Engineering B, 2011, 卷号: 176, 页码: 850-854 作者:  Ji L(吉利);  Li HX(李红轩);  Li HX(李红轩);  Zhou HD(周惠娣);  Chen JM(陈建敏) 收藏  |  浏览/下载：29/0  |  提交时间：2012/09/24 CrN films  Medium frequency magnetron sputterin  Substrate bias voltage  Microstructure  Residual stress   Microstructure and mechanical properties of CrN coating deposited by arc ion plating on Ti6Al4V substrate 期刊论文  OAI收割 Surface & Coatings Technology, 2011, 卷号: 205, 期号: 19, 页码: 4690-4696 Z. K. Chang; X. S. Wan; Z. L. Pei; J. Gong; C. Sun 收藏  |  浏览/下载：21/0  |  提交时间：2012/04/13 Knoop hardness test  Interfaces  Wear  Arc ion plating  CrN coatings  Ti6Al4V alloy  nitride thin-films  ti-6al-4v alloy  hard coatings  wear behavior  tribological properties  residual-stress  sliding contact  bias voltage  n coatings  surface   Low temperature deposition of titanium nitride 期刊论文  OAI收割 Journal of Materials Science & Technology, 1998, 卷号: 14, 期号: 4, 页码: 289-293 L. S. Wen; R. F. Huang 收藏  |  浏览/下载：18/0  |  提交时间：2012/04/14 pulse bias voltage  residual-stress  ion-bombardment  hard coatings  pvd  coatings  film growth  tin  arc  resistance  substrate