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机构
半导体研究所 [4]
上海硅酸盐研究所 [2]
微电子研究所 [1]
近代物理研究所 [1]
采集方式
OAI收割 [8]
内容类型
期刊论文 [8]
发表日期
2011 [8]
学科主题
半导体材料 [2]
生物材料 [2]
光电子学 [1]
微电子学 [1]
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浏览/检索结果:
共8条,第1-8条
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限定条件
发表日期:2011
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Microstructure and properties of Ag/N dual ions implanted titanium
期刊论文
OAI收割
Surface & Coatings Technology, 2011, 卷号: 205, 页码: 5430-5436
Jinbo Li
;
乔玉琴
;
Zhihong Ding
;
刘宣勇
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浏览/下载:16/0
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提交时间:2012/07/04
Wettability control by DLC coated nanowire topography
期刊论文
OAI收割
Nanotechnology, 2011, 卷号: 22, 期号: 13
Zihui Li
;
孟凡浩
;
刘宣勇
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浏览/下载:10/0
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提交时间:2012/07/04
A novel method to produce black silicon for solar cells
期刊论文
OAI收割
Solar Energy, 2011
作者:
Liu BW(刘邦武)
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提交时间:2012/11/14
Contributions of N+, N-2(+), NO+ Ion Implantation to p-Type Conversion of ZnO:Al Films
期刊论文
OAI收割
IEEE TRANSACTIONS ON PLASMA SCIENCE, 2011, 卷号: 39, 页码: 711-716
作者:
Li, Zebin
;
Liang, Rongqing
;
Ou, Qiongrong
;
Zhang, Shuyu
;
He, Long
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浏览/下载:15/0
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提交时间:2018/05/31
N-Al codoping
plasma immersion ion implantation (PIII)
p-type ZnO
Ordered InAs nanodots formed on the patterned GaAs substrate by molecular beam epitaxy
期刊论文
OAI收割
materials science in semiconductor processing, 2011, 卷号: 14, 期号: 2, 页码: 108-113
Jin, L
;
Zhou, HY
;
Qu, SC
;
Wang, ZG
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浏览/下载:91/0
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提交时间:2012/02/06
Patterned substrate
Ion implantation
Ordered nanodots
Anodic aluminum oxide
QUANTUM DOTS
ISLANDS
GROWTH
SEMICONDUCTORS
NANOSTRUCTURES
COMPUTATION
INGAAS
Infrared response of the lateral PIN structure of a highly titanium-doped silicon-on-insulator material
期刊论文
OAI收割
chinese physics b, 2011, 卷号: 20, 期号: 10, 页码: 106104
Ma, ZH
;
Cao, Q
;
Zuo, YH
;
Zheng, J
;
Xue, CL
;
Cheng, BW
;
Wang, QM
收藏
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浏览/下载:24/0
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提交时间:2012/02/06
infrared response
ion implantation
rapid thermal annealing
intermediate band solar cell
PHOTODIODE
Influence of high-dose nitrogen implantation on the positive charge density of the buried oxide of silicon-on-insulator wafers
期刊论文
OAI收割
acta physica sinica, 2011, 卷号: 60, 期号: 5, 页码: article no.56104
作者:
Yu F
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浏览/下载:93/6
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提交时间:2011/07/06
separation by oxygen implantation
buried oxide
nitrogen implantation
positive charge density
RADIATION HARDNESS
IMPLANTING NITROGEN
ION-IMPLANTATION
IMPROVEMENT
TECHNOLOGY
OXYGEN
LAYER
The impact of annealing temperature on the structural and magnetization properties of Sm implanted GaN films
期刊论文
OAI收割
materials letters, MATERIALS LETTERS, 2011, 2011, 卷号: 65, 65, 期号: 4, 页码: 667-669, 667-669
作者:
Sun LL
;
Liu C
;
Li JM
;
Wang JX
;
Yan FW
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浏览/下载:63/7
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提交时间:2011/07/05
Diluted magnetic semiconductors (DMSs)
Ion implantation
Room-temperature ferromagnetic properties
ROOM-TEMPERATURE
Diluted Magnetic Semiconductors (Dmss)
Ion implantatIon
Room-temperature Ferromagnetic Properties
Room-temperature