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半導体エピタキシャル成長方法 专利  OAI收割
专利号: JP3325721B2, 申请日期: 2002-07-05, 公开日期: 2002-09-17
作者:  
久保 実;  西川 孝司;  佐々井 洋一
  |  收藏  |  浏览/下载:14/0  |  提交时间:2019/12/24
半導体レーザ 专利  OAI收割
专利号: JP1996130345A, 申请日期: 1996-05-21, 公开日期: 1996-05-21
作者:  
佐々井 洋一;  上村 信行;  上山 智
  |  收藏  |  浏览/下载:10/0  |  提交时间:2020/01/18
半導体レーザおよびその製造方法 专利  OAI收割
专利号: JP1995045900A, 申请日期: 1995-02-14, 公开日期: 1995-02-14
作者:  
山田 美保;  高橋 康仁;  久保 実;  佐々井 洋一
  |  收藏  |  浏览/下载:4/0  |  提交时间:2020/01/18
半導体エピタキシャル成長方法 专利  OAI收割
专利号: JP1994013314A, 申请日期: 1994-01-21, 公开日期: 1994-01-21
作者:  
久保 実
  |  收藏  |  浏览/下载:23/0  |  提交时间:2020/01/18
半導体レーザ装置 专利  OAI收割
专利号: JP1993013873A, 申请日期: 1993-01-22, 公开日期: 1993-01-22
作者:  
斎藤 徹;  久保 実;  横川 俊哉;  成沢 忠
  |  收藏  |  浏览/下载:12/0  |  提交时间:2020/01/13