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半导体器件及其制造方法
专利
OAI收割
专利号: CN201210293525.X, 申请日期: 2018-09-14, 公开日期: 2014-02-19
作者:
马小龙
;
殷华湘
;
付作振
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提交时间:2019/03/22
堆叠纳米线MOS晶体管制作方法
专利
OAI收割
专利号: CN201210392511.3, 申请日期: 2018-07-31, 公开日期: 2014-04-16
作者:
殷华湘
;
秦长亮
;
付作振
;
马小龙
;
陈大鹏
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提交时间:2019/03/21
堆叠纳米线MOS晶体管制作方法
专利
OAI收割
专利号: US9892912, 申请日期: 2018-02-13, 公开日期: 2015-08-13
作者:
殷华湘
;
秦长亮
;
付作振
;
马小龙
;
陈大鹏
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提交时间:2019/03/27
半导体器件制造方法
专利
OAI收割
专利号: CN201210293349.X, 申请日期: 2018-02-13, 公开日期: 2014-02-19
作者:
马小龙
;
殷华湘
;
付作振
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提交时间:2019/03/14
双金属栅极CMOS器件及其制造方法
专利
OAI收割
专利号: US9384986, 申请日期: 2016-07-05, 公开日期: 2013-10-31
作者:
殷华湘
;
付作振
;
徐秋霞
;
陈大鹏
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提交时间:2017/06/13
半导体器件及其制造方法
专利
OAI收割
专利号: CN201210067446.7, 申请日期: 2016-03-30, 公开日期: 2013-09-18
作者:
赵超
;
殷华湘
;
付作振
;
徐秋霞
;
陈大鹏
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提交时间:2017/06/30
双金属栅极CMOS器件及其制造方法
专利
OAI收割
专利号: CN201210129587.7, 申请日期: 2015-10-14, 公开日期: 2013-10-30
作者:
殷华湘
;
付作振
;
徐秋霞
;
陈大鹏
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提交时间:2016/09/18
Structure design and film process optimization for metal-gate stress in 20 nm nMOS devices
期刊论文
OAI收割
Journal of Semiconductors, 2013
作者:
Yin HX(殷华湘)
;
Fu ZZ(付作振)
;
Ma XL(马小龙)
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提交时间:2014/10/30
纳米级CMOS器件应力金属栅工程及结构优化研究
学位论文
OAI收割
: 中国科学院大学, 2013
作者:
付作振
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提交时间:2017/10/13
半导体器件及其制造方法
专利
OAI收割
专利号: US8912070, 申请日期: 2012-10-22, 公开日期: 2015-05-27
作者:
马小龙
;
殷华湘
;
付作振
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提交时间:2015/05/27