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III族窒化物半導体薄膜の製造方法 专利  OAI收割
专利号: JP3707211B2, 申请日期: 2005-08-12, 公开日期: 2005-10-19
作者:  
大井 明彦;  鈴木 健;  松井 俊之;  松山 秀昭;  上條 洋
  |  收藏  |  浏览/下载:8/0  |  提交时间:2019/12/24
p型窒化ガリウム薄膜およびその製造方法 专利  OAI收割
专利号: JP2000143396A, 申请日期: 2000-05-23, 公开日期: 2000-05-23
作者:  
鈴木 健;  大井 明彦
  |  收藏  |  浏览/下载:7/0  |  提交时间:2019/12/31
III 族窒化物半導体素子およびその製造方法 专利  OAI收割
专利号: JP1999121800A, 申请日期: 1999-04-30, 公开日期: 1999-04-30
作者:  
鈴木 健;  松井 俊之;  大井 明彦;  松山 秀昭;  上條 洋
  |  收藏  |  浏览/下载:19/0  |  提交时间:2020/01/18
III 族窒化物半導体素子およびその製造方法 专利  OAI收割
专利号: JP1999112107A, 申请日期: 1999-04-23, 公开日期: 1999-04-23
作者:  
鈴木 健;  松井 俊之;  大井 明彦;  松山 秀昭;  上條 洋
  |  收藏  |  浏览/下载:9/0  |  提交时间:2019/12/31
自励発振型半導体レーザ素子 专利  OAI收割
专利号: JP1995022695A, 申请日期: 1995-01-24, 公开日期: 1995-01-24
作者:  
三宅 輝明;  茨木 晃;  林 伸彦;  田尻 敦志;  古沢 浩太郎
  |  收藏  |  浏览/下载:93/0  |  提交时间:2020/01/18