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机构
西安光学精密机械研究... [5]
采集方式
OAI收割 [5]
内容类型
专利 [5]
发表日期
2005 [1]
2000 [1]
1999 [2]
1995 [1]
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共5条,第1-5条
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III族窒化物半導体薄膜の製造方法
专利
OAI收割
专利号: JP3707211B2, 申请日期: 2005-08-12, 公开日期: 2005-10-19
作者:
大井 明彦
;
鈴木 健
;
松井 俊之
;
松山 秀昭
;
上條 洋
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提交时间:2019/12/24
p型窒化ガリウム薄膜およびその製造方法
专利
OAI收割
专利号: JP2000143396A, 申请日期: 2000-05-23, 公开日期: 2000-05-23
作者:
鈴木 健
;
大井 明彦
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提交时间:2019/12/31
III 族窒化物半導体素子およびその製造方法
专利
OAI收割
专利号: JP1999121800A, 申请日期: 1999-04-30, 公开日期: 1999-04-30
作者:
鈴木 健
;
松井 俊之
;
大井 明彦
;
松山 秀昭
;
上條 洋
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提交时间:2020/01/18
III 族窒化物半導体素子およびその製造方法
专利
OAI收割
专利号: JP1999112107A, 申请日期: 1999-04-23, 公开日期: 1999-04-23
作者:
鈴木 健
;
松井 俊之
;
大井 明彦
;
松山 秀昭
;
上條 洋
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提交时间:2019/12/31
自励発振型半導体レーザ素子
专利
OAI收割
专利号: JP1995022695A, 申请日期: 1995-01-24, 公开日期: 1995-01-24
作者:
三宅 輝明
;
茨木 晃
;
林 伸彦
;
田尻 敦志
;
古沢 浩太郎
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提交时间:2020/01/18