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上海微系统与信息技术... [1]
采集方式
OAI收割 [9]
内容类型
期刊论文 [7]
成果 [2]
发表日期
1996 [1]
1988 [1]
1987 [2]
1986 [1]
1982 [1]
1980 [2]
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学科主题
半导体材料 [2]
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共9条,第1-9条
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金属有机化学气相沉积法制备钛酸铅铁电薄膜
期刊论文
OAI收割
物理学报, 1996, 期号: 10, 页码: 8
作者:
孙力
;
陈延峰
;
于涛
;
闵乃本
;
姜晓明
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浏览/下载:14/0
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提交时间:2015/12/25
铁电薄膜
摇摆曲线
择优取向
重掺杂硅单晶
多晶薄膜
薄膜质量
钛酸铅
外延生长
铁电性能
化学计量比
掺氮中子擅变区熔硅单晶的制备
成果
OAI收割
院科技进步奖: 一等奖, 1988
梁骏吾
;
邓礼生
;
郑红军
;
黄大定
;
栾洪发
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浏览/下载:36/0
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提交时间:2010/04/13
硅单晶
硅中氧沉淀的高分辨电镜研究
期刊论文
OAI收割
科学通报, 1987, 期号: 15, 页码: 1198-1199
肖治纲,蔺锡伟,柯俊,秦禄昌
收藏
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浏览/下载:27/0
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提交时间:2012/04/12
高分辨电镜研究:6353
方法研究:4669
氧沉淀:4372
集成电路工艺:2400
直拉硅单晶:2231
预先热处理:1658
沉淀速率:1325
硅中氧:1179
有害杂质:1139
新技术:875
硅单晶次缺陷图集
成果
OAI收割
北京市科技进步奖: 二等奖, 1987
张一心
;
蔡田海
;
高维滨
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浏览/下载:30/0
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提交时间:2010/04/13
硅单晶
中子辐照氢气区熔硅单晶退火行为的正电子湮没研究
期刊论文
OAI收割
半导体学报, 1986, 期号: 1, 页码: 78-84
作者:
熊兴民
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浏览/下载:20/0
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提交时间:2015/12/25
中子辐照
正电子湮没
等时退火
硅单晶
区熔
双空位
退火温度
基块
空位缺陷
悬键
氢气氛浮区硅单晶中正电子湮灭参数的测量
期刊论文
OAI收割
核技术, 1982, 期号: 6, 页码: 66-68
作者:
季国坤
;
黄懋容
;
刘年庆
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浏览/下载:19/0
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提交时间:2015/12/25
硅单晶
中子辐照
参数表示
晶体生长过程
总计数
间隙原子
用正
加热处理
化学抛光
机械抛光
硅单晶中铜沉淀物的几何形态
期刊论文
OAI收割
物理学报, 1980, 期号: 7, 页码: 860-866
巴图,何怡贞
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浏览/下载:19/0
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提交时间:2012/04/12
蚀沟:6687
铜沉淀物:4692
硅单晶:3550
红外显微镜:3077
几何形态:2088
观察面:1916
针状沉淀:1082
交线:865
深蚀:817
观察到:745
硅晶体中单个位错的运动
期刊论文
OAI收割
物理学报, 1980, 期号: 6, 页码: 698-705
巴图,何怡贞
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浏览/下载:24/0
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提交时间:2012/04/12
单个位错:6260
硅晶体:3980
位错环:2905
位错运动:2695
扩展位错:2638
半位错:2381
弯结:2255
分解切应力:2230
运动速度:2043
硅单晶:1542
从熔体中生长金属和半导体单晶技术的进展
期刊论文
OAI收割
科学通报, 1965, 期号: 06
王渭源
;
徐元森
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浏览/下载:14/0
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提交时间:2012/04/19
锗单晶:4737
晶体生长机理:4336
溶液中生长晶体:3855
熔体:3443
体单晶:2931
单晶生长:2227
硅单晶:2185
半导体:2165
籽晶:2143
金属单晶:2099