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采集方式

• OAI收割 [7]

内容类型

• 期刊论文 [7]

发表日期

• 2021 [2]
• 2019 [1]
• 2016 [1]
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学科主题

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浏览/检索结果: 共7条，第1-7条 帮助 条数/页： 5101520253035404550556065707580859095100 排序方式： 请选择题名升序题名降序提交时间升序提交时间降序作者升序作者降序发表日期升序发表日期降序 The origin of the 500 nm luminescence band related to oxygen vacancies in ZrO2 期刊论文  OAI收割 JOURNAL OF LUMINESCENCE, 2021, 卷号: 237 作者:  Wang, Ting-Shun;  Wang, Guang-Fu;  Qiu, Meng-Lin;  Cheng, Wei;  Zhang, Jin-Fu   |  收藏  |  浏览/下载：32/0  |  提交时间：2021/12/01 THIN-FILMS  PHOTOLUMINESCENCE PROPERTIES  DEFECTS  PHOSPHORESCENCE  EMISSION  TITANIUM  HFO2   The origin of the 500 nm luminescence band related to oxygen vacancies in ZrO2 期刊论文  OAI收割 JOURNAL OF LUMINESCENCE, 2021, 卷号: 237 作者:  Wang, Ting-Shun;  Wang, Guang-Fu;  Qiu, Meng-Lin;  Cheng, Wei;  Zhang, Jin-Fu   |  收藏  |  浏览/下载：26/0  |  提交时间：2021/12/01 THIN-FILMS  PHOTOLUMINESCENCE PROPERTIES  DEFECTS  PHOSPHORESCENCE  EMISSION  TITANIUM  HFO2   The Optical Absorption and Photoluminescence Characteristics of Evaporated and IAD HfO2 Thin Films 期刊论文  OAI收割 COATINGS, 2019, 卷号: 9, 期号: 5 作者:  Kong, Mingdong;  Li, Bincheng;  Guo, Chun;  Zeng, Peng;  Wei, Ming   |  收藏  |  浏览/下载：15/0  |  提交时间：2021/05/06 HfO2 thin films  optical absorption  photoluminescence  electron-beam deposition  ion-assisted deposition (IAD)   Microstructure, wettability, optical and electrical properties of HfO2 thin films: Effect of oxygen partial pressure 期刊论文  OAI收割 JOURNAL OF ALLOYS AND COMPOUNDS, 2016, 卷号: 662, 期号: 无, 页码: 339-347 作者:  Gao, J.;  He, G.;  Deng, B.;  Xiao, D. Q.;  Liu, M. 收藏  |  浏览/下载：23/0  |  提交时间：2017/10/18 Hfo2 Thin Films  Rf Sputtering  Optical Properties  Band Gap  Wettability   Phase separation enhanced interfacial reactions in complex high-k dielectric films 期刊论文  OAI收割 Integrated Ferroelectrics, 2006, 卷号: 86, 页码: 13-19 X. Y. Qiu; F. Gao; H. W. Liu; J. S. Zhu; J. M. Liu 收藏  |  浏览/下载：18/0  |  提交时间：2012/04/14 phase separation  interfacial reaction  high-k dielectric film  pulsed-laser deposition  silicate thin-films  thermal-stability  gate  property  hfo2   Phase separation and interfacial reaction of high-k HfAlOx films prepared by pulsed-laser deposition in oxygen-deficient ambient 期刊论文  OAI收割 Applied Physics Letters, 2006, 卷号: 88, 期号: 7 X. Y. Qiu; H. W. Liu; F. Fang; M. J. Ha; J. M. Liu 收藏  |  浏览/下载：15/0  |  提交时间：2012/04/14 silicate thin-films  thermal-stability  gate dielectrics  si(100)  zro2  capacitors  diffusion  kinetics  oxides  hfo2   Integrated SOI rib waveguide using inductively coupled plasma reactive ion etching 期刊论文  OAI收割 IEEE JOURNAL OF SELECTED TOPICS IN QUANTUM ELECTRONICS, 2005, 卷号: 11, 期号: 1, 页码: 254-259 Wang, YJ; Lin, ZL; Zhang, CS; Gao, F; Zhang, F 收藏  |  浏览/下载：12/0  |  提交时间：2012/03/24 HFO2 THIN-FILMS  OPTICAL-FIBERS  SI  ALIGNMENT