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浏览/检索结果: 共4条，第1-4条 帮助 条数/页： 5101520253035404550556065707580859095100 排序方式： 请选择题名升序题名降序发表日期升序发表日期降序提交时间升序提交时间降序作者升序作者降序 Charge trapping effect in HfO2-based high-k gate dielectric stacks after heavy ion irradiation: The role of oxygen vacancy 期刊论文  OAI收割 NUCLEAR INSTRUMENTS & METHODS IN PHYSICS RESEARCH SECTION B-BEAM INTERACTIONS WITH MATERIALS AND ATOMS, 2019, 卷号: 459, 页码: 143-147 作者:  Li, Zongzhen;  Liu, Tianqi;  Bi, Jinshun;  Yao, Huijun;  Zhang, Zhenxing   |  收藏  |  浏览/下载：30/0  |  提交时间：2022/01/19 High-k HfO2  Heavy ion irradiation  Reliability  Charge trapping  Oxygen vacancy   Characterization of Hafnium-Zirconium-Oxide-Nitride films grown by ion beam assisted deposition 期刊论文  OAI收割 VACUUM, 2012, 卷号: 86, 期号: 8, 页码: 1078-1082 Jin, CG; Yu, T; Bo, Y; Zhao, Y; Zhang, HY; Dong, YJ; Wu, XM; Zhuge, LJ; Ge, SB 收藏  |  浏览/下载：32/0  |  提交时间：2013/04/17 High-k dielectrics  HfO2  ZrO2  Structure  Optical properties   Plasma enhanced atomic layer deposition of HfO2 with in situ plasma treatment 期刊论文  OAI收割 MICROELECTRONIC ENGINEERING, 2012, 卷号: 93, 页码: 15-18 Xu, DW; Cheng, XH; Zhang, YW; Wang, ZJ; Xia, C; Cao, D; Yu, YH; Shen, DS 收藏  |  浏览/下载：20/0  |  提交时间：2013/04/17 PEALD  HfO2  Plasma treatment  High-k   Phase separation enhanced interfacial reactions in complex high-k dielectric films 期刊论文  OAI收割 Integrated Ferroelectrics, 2006, 卷号: 86, 页码: 13-19 X. Y. Qiu; F. Gao; H. W. Liu; J. S. Zhu; J. M. Liu 收藏  |  浏览/下载：18/0  |  提交时间：2012/04/14 phase separation  interfacial reaction  high-k dielectric film  pulsed-laser deposition  silicate thin-films  thermal-stability  gate  property  hfo2