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浏览/检索结果: 共6条，第1-6条 帮助 条数/页： 5101520253035404550556065707580859095100 排序方式： 请选择题名升序题名降序发表日期升序发表日期降序提交时间升序提交时间降序作者升序作者降序 Dry etched sio2 mask for hgcdte etching process 期刊论文  iSwitch采集 Journal of electronic materials, 2016, 卷号: 45, 期号: 9, 页码: 4705-4710 作者:  Chen, Y. Y.;  Ye, Z. H.;  Sun, C. H.;  Deng, L. G.;  Zhang, S. 收藏  |  浏览/下载：39/0  |  提交时间：2019/05/09 Sio2 mask  Auto-stopping point  Hgcdte  Icp etching   Etching of new phase change material Ti0.5Sb2Te3 by Cl-2/Ar and CF4/Ar inductively coupled plasmas 期刊论文  OAI收割 Applied Surface Science, 2014, 卷号: 311, 期号: 8, 页码: 68-73 作者:  Zhang, Zhonghua;  Song, Sannian;  Song, Zhitang;  Cheng, Yan;  Zhu, Min 收藏  |  浏览/下载：41/0  |  提交时间：2014/11/11 Phase change material  Ti-Sb-Te  Etching  ICP   Investigations on a Multiple Mask Technique to Depress Processing-Induced Damage of ICP-Etched HgCdTe Trenches 期刊论文  OAI收割 J. Electron. Mater, 2013, 卷号: 42, 期号: 11 Z.H. YE; W.D. HU; W. LEI; W. LU; L. HE; L. YANG; P. ZHANG; Y. HUANG; C. LIN; C.H. SUN; X.N. HU; R.J. DING; X.S. CHEN 收藏  |  浏览/下载：25/0  |  提交时间：2014/11/11 Mercury cadmium telluride (HgCdTe)  processing-induced side-wall damage  inductively coupled plasma (ICP)  high etching selectivity   Extended-wavelength 640 x 1 linear InGaAs detector arrays using N-on-P configuration for back illumination 期刊论文  OAI收割 JOURNAL OF INFRARED AND MILLIMETER WAVES, 2012, 卷号: 31, 期号: 1, 页码: 11-+ Zhu, YM; Li, YF; Li, X; Tang, HJ; Shao, XM; Chen, Y; Deng, HH; Wei, P; Zhang, YG; Gong, HM 收藏  |  浏览/下载：32/0  |  提交时间：2013/04/17 N-on-P configuration  ICP etching  linear detector array  photoelectric characteristics   SIS Mixer Fabrication for ALMA Band10 期刊论文  OAI收割 IEEE TRANSACTIONS ON APPLIED SUPERCONDUCTIVITY, 2009, 卷号: 19, 期号: 3, 页码: 171-173 作者:  Kroug, Matthias;  Endo, A.;  Tamura, T.;  Noguchi, T.;  Kojima, T. 收藏  |  浏览/下载：46/0  |  提交时间：2011/12/08 ICP etching  SIS mixer  submillimeter wave receiver   Loss-Reduction in Flexibly Vertical Coupled Ring Lasers Through Asymmetric Double Shallow Ridge and ICP/ICP Cascade Etching 期刊论文  OAI收割 IEEE PHOTONICS TECHNOLOGY LETTERS, 2008, 卷号: 20, 期号: 21-24, 页码: 1821-1823 作者:  Zhang R(张瑞英) 收藏  |  浏览/下载：15/0  |  提交时间：2010/01/15 Active vertical coupler (AVC)  asymmetrical double shallow ridge  inductively coupled plasma (ICP)/ICP etching  rectangular ring laser