中国科学院机构知识库网格
Chinese Academy of Sciences Institutional Repositories Grid
首页
机构
成果
学者
登录
注册
登陆
×
验证码:
换一张
忘记密码?
记住我
×
校外用户登录
CAS IR Grid
机构
金属研究所 [5]
兰州化学物理研究所 [1]
采集方式
OAI收割 [6]
内容类型
期刊论文 [6]
发表日期
2010 [1]
2008 [1]
2003 [3]
1998 [1]
学科主题
材料科学与物理化学 [1]
筛选
浏览/检索结果:
共6条,第1-6条
帮助
条数/页:
5
10
15
20
25
30
35
40
45
50
55
60
65
70
75
80
85
90
95
100
排序方式:
请选择
题名升序
题名降序
提交时间升序
提交时间降序
作者升序
作者降序
发表日期升序
发表日期降序
Effects of nitrogen pressure and pulse bias voltage on the properties of Cr-N coatings deposited by arc ion plating
期刊论文
OAI收割
Surface & Coatings Technology, 2010, 卷号: 204, 期号: 11, 页码: 1800-1810
X. S. Wan
;
S. S. Zhao
;
Y. Yang
;
J. Gong
;
C. Sun
收藏
  |  
浏览/下载:21/0
  |  
提交时间:2012/04/13
Arc ion plating
Cr-N coating
Nitrogen pressure
Pulse bias voltage
chromium nitride films
thin-films
cathodic vacuum
tin
behavior
stress
macroparticles
evaporation
plasma
charge
Fabrication of nanopatterns on H-passivated Si surface by AFM local anodic oxidation
期刊论文
OAI收割
Physica E, 2008, 卷号: 41, 页码: 146-149
莫宇飞
;
王莹
;
白明武
收藏
  |  
浏览/下载:19/0
  |  
提交时间:2013/03/28
Nanopattern
Local anodic oxidation
Atomic force microscopy
Pulse bias voltage
Microstructure and hardness of chromium oxide coatings by arc ion plating
期刊论文
OAI收割
ACTA METALLURGICA SINICA, 2003, 卷号: 39, 期号: 9, 页码: 979-983
作者:
Ji, AL
;
Wang, W
;
Song, GH
;
Wang, AY
;
Sin, C
  |  
收藏
  |  
浏览/下载:12/0
  |  
提交时间:2021/02/02
Cr2O3 thin film
arc ion plating
microstructure
pulse bias voltage
Microstructure and hardness of chromium oxide coatings by arc ion plating
期刊论文
OAI收割
ACTA METALLURGICA SINICA, 2003, 卷号: 39, 期号: 9, 页码: 979-983
作者:
Ji, AL
;
Wang, W
;
Song, GH
;
Wang, AY
;
Sin, C
  |  
收藏
  |  
浏览/下载:10/0
  |  
提交时间:2021/02/02
Cr2O3 thin film
arc ion plating
microstructure
pulse bias voltage
Effects of nitrogen partial pressure and pulse bias voltage on (Ti,AI)N coatings by arc ion plating
期刊论文
OAI收割
Surface & Coatings Technology, 2003, 卷号: 167, 期号: 2-3, 页码: 197-202
M. S. Li
;
F. H. Wang
收藏
  |  
浏览/下载:13/0
  |  
提交时间:2012/04/14
arc ion plating
(Ti
Al)N coatings
N-2 partial pressure
pulse bias
voltage
films
Low temperature deposition of titanium nitride
期刊论文
OAI收割
Journal of Materials Science & Technology, 1998, 卷号: 14, 期号: 4, 页码: 289-293
L. S. Wen
;
R. F. Huang
收藏
  |  
浏览/下载:17/0
  |  
提交时间:2012/04/14
pulse bias voltage
residual-stress
ion-bombardment
hard coatings
pvd
coatings
film growth
tin
arc
resistance
substrate