中国科学院机构知识库网格
Chinese Academy of Sciences Institutional Repositories Grid
首页
机构
成果
学者
登录
注册
登陆
×
验证码:
换一张
忘记密码?
记住我
×
校外用户登录
CAS IR Grid
机构
上海微系统与信息技术... [3]
物理研究所 [1]
中国科学院大学 [1]
半导体研究所 [1]
采集方式
OAI收割 [5]
iSwitch采集 [1]
内容类型
期刊论文 [4]
会议论文 [1]
学位论文 [1]
发表日期
2015 [1]
2012 [2]
2005 [1]
2001 [1]
2000 [1]
学科主题
Engineerin... [1]
Engineerin... [1]
光电子学 [1]
筛选
浏览/检索结果:
共6条,第1-6条
帮助
条数/页:
5
10
15
20
25
30
35
40
45
50
55
60
65
70
75
80
85
90
95
100
排序方式:
请选择
题名升序
题名降序
发表日期升序
发表日期降序
提交时间升序
提交时间降序
作者升序
作者降序
Ultrathin homogeneous ni(al) germanosilicide layer formation on strained sige with al/ni multi-layers
期刊论文
iSwitch采集
Microelectronic engineering, 2015, 卷号: 137, 页码: 88-91
作者:
Liu, Linjie
;
Jin, Lei
;
Knoll, Lars
;
Wirths, Stephan
;
Buca, Dan
收藏
  |  
浏览/下载:51/0
  |  
提交时间:2019/05/10
Germanosilicide
Al mediation
Strained sige
Hole Mobilities of Si/Si0.5Ge0.5 Quantum-Well Transistor on SOI and Strained SOI
期刊论文
OAI收割
IEEE ELECTRON DEVICE LETTERS, 2012, 卷号: 33, 期号: 6, 页码: 758-760
Yu, W
;
Zhang, B
;
Zhao, QT
;
Buca, D
;
Hartmann, JM
;
Luptak, R
;
Mussler, G
;
Fox, A
;
Bourdelle, KK
;
Wang, X
;
Mantl, S
收藏
  |  
浏览/下载:34/0
  |  
提交时间:2013/04/17
Hole mobility
quantum well (QW)
SiGe
strained Si (sSi)
Tunneling field-effect transistor with a strained Si channel and a Si0.5Ge0.5 source
期刊论文
OAI收割
SOLID-STATE ELECTRONICS, 2012, 卷号: 74, 页码: 97-101
Zhao, QT
;
Yu, WJ
;
Zhang, B
;
Schmidt, M
;
Richter, S
;
Buca, D
;
Hartmann, JM
;
Luptak, R
;
Fox, A
;
Bourdelle, KK
;
Mantl, S
收藏
  |  
浏览/下载:18/0
  |  
提交时间:2013/04/17
Tunnel FET
Strained Si
Subthreshold swing
SiGe
SOI基锗硅弛豫研究及绝缘体上应变硅材料制备
学位论文
OAI收割
博士: 中国科学院研究生院(上海微系统与信息技术研究所) , 2005
金波
收藏
  |  
浏览/下载:61/0
  |  
提交时间:2012/03/06
SiGe
SOI
Strained Silicon
Raman scattering of Ge/Si dot superlattices under hydrostatic pressure
期刊论文
OAI收割
PHYSICAL REVIEW B, 2001, 卷号: 64, 期号: 7
Qin, L
;
Teo, KL
;
Shen, ZX
;
Peng, CS
;
Zhou, JM
收藏
  |  
浏览/下载:25/0
  |  
提交时间:2013/09/24
GE QUANTUM DOTS
STRAINED-LAYER SUPERLATTICES
OPTICAL-PROPERTIES
SIGE ISLANDS
SI(001)
PHOTOLUMINESCENCE
MICROSCOPY
CLUSTERS
CONFINEMENT
OVERGROWTH
In situ annealing during the growth of relaxed SiGe
会议论文
OAI收割
conference on optical and infrared thin films, san diego, ca, 36739
Li DZ
;
Huang CJ
;
Cheng BW
;
Wang HJ
;
Yu Z
;
Zhang CH
;
Yu JZ
;
Wang QM
收藏
  |  
浏览/下载:30/0
  |  
提交时间:2010/10/29
Ultrahigh Vacuum Chemical Vapor Deposition
SiGe
Refractive High Energy Electron Diffraction
tansmission electron microscopy
Double Crystal X-Ray Diffraction
MOBILITY 2-DIMENSIONAL ELECTRON
CRITICAL THICKNESS
STRAINED LAYERS
GE
RELAXATION
EPILAYERS
SI1-XGEX
GESI/SI
GASES