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机构
半导体研究所 [6]
采集方式
iSwitch采集 [3]
OAI收割 [3]
内容类型
期刊论文 [6]
发表日期
2010 [2]
2000 [4]
学科主题
半导体材料 [2]
光电子学 [1]
筛选
浏览/检索结果:
共6条,第1-6条
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条数/页:
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High-saturation-power and high-speed ge-on-soi p-i-n photodetectors
期刊论文
iSwitch采集
Ieee electron device letters, 2010, 卷号: 31, 期号: 7, 页码: 701-703
作者:
Xue, Hai-Yun
;
Xue, Chun-Lai
;
Cheng, Bu-Wen
;
Yu, Yu-De
;
Wang, Qi-Ming
收藏
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浏览/下载:34/0
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提交时间:2019/05/12
Germanium
Photodetectors
Saturation power
Silicon-on-insulator (soi) technology
Ultrahigh-vacuum chemical vapor deposition (uhv/cvd)
High-Saturation-Power and High-Speed Ge-on-SOI p-i-n Photodetectors
期刊论文
OAI收割
ieee electron device letters, 2010, 卷号: 31, 期号: 7, 页码: 701-703
Xue HY (Xue Hai-Yun)
;
Xue CL (Xue Chun-Lai)
;
Cheng BW (Cheng Bu-Wen)
;
Yu YD (Yu Yu-De)
;
Wang QM (Wang Qi-Ming)
收藏
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浏览/下载:54/0
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提交时间:2010/11/01
Germanium
photodetectors
saturation power
silicon-on-insulator (SOI) technology
ultrahigh-vacuum chemical vapor deposition (UHV/CVD)
A surface kinetics model for the growth of si1-xgex by uhv/cvd using sih4/ceh4
期刊论文
iSwitch采集
Journal of crystal growth, 2000, 卷号: 218, 期号: 2-4, 页码: 245-249
作者:
Yu, Z
;
Li, DZ
;
Cheng, BW
;
Huang, CJ
;
Lei, ZL
收藏
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提交时间:2019/05/12
Sige/si
Epitaxial growth
Surface reaction kinetics
Uhv/cvd system
Effect of low-temperature sige interlayer on the growth of relaxed sige
期刊论文
iSwitch采集
Journal of crystal growth, 2000, 卷号: 213, 期号: 3-4, 页码: 308-311
作者:
Li, DZ
;
Huang, CJ
收藏
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浏览/下载:21/0
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提交时间:2019/05/12
Sige
Uhv/cvd
Rheed
Raman scattering
Effect of low-temperature SiGe interlayer on the growth of relaxed SiGe
期刊论文
OAI收割
journal of crystal growth, 2000, 卷号: 213, 期号: 3-4, 页码: 308-311
Li DZ
;
Huang CJ
;
Cheng BW
;
Wang HJ
;
Yu Z
;
Zhang CH
;
Yu JZ
;
Wang QM
收藏
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浏览/下载:62/0
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提交时间:2010/08/12
SiGe
UHV/CVD
RHEED
Raman scattering
SILICON
RELAXATION
A surface kinetics model for the growth of Si1-xGex by UHV/CVD using SiH4/CeH4
期刊论文
OAI收割
journal of crystal growth, 2000, 卷号: 218, 期号: 2-4, 页码: 245-249
Yu Z
;
Li DZ
;
Cheng BW
;
Huang CJ
;
Lei ZL
;
Yu JZ
;
Wang QM
;
Liang JW
收藏
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浏览/下载:55/0
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提交时间:2010/08/12
SiGe/Si
epitaxial growth
surface reaction kinetics
UHV/CVD system
CHEMICAL VAPOR-DEPOSITION
ATOMIC-HYDROGEN
ADSORPTION
SI(100)
SI2H6
SIH4
MECHANISMS
DESORPTION
PHASE
FILMS