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High rate deposition of microcrystalline silicon films by high-pressure radio frequency plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD) 期刊论文  OAI收割
science in china series e-technological sciences, 2008, 卷号: 51, 期号: 4, 页码: 371-377
Zhou, BQ; Zhu, MF; Liu, FZ; Liu, JL; Zhou, YQ; Li, GH; Ding, K
收藏  |  浏览/下载：58/5  |  提交时间：2010/03/08
Structural evaluation of polycrystalline silicon thin films by hot-wire-assisted pecvd 期刊论文  iSwitch采集
Thin solid films, 2001, 卷号: 395, 期号: 1-2, 页码: 213-216
作者:  Feng, Y;  Zhu, M;  Liu, F;  Liu, J;  Han, H
收藏  |  浏览/下载：26/0  |  提交时间：2019/05/12
Structural evaluation of polycrystalline silicon thin films by hot-wire-assisted PECVD 期刊论文  OAI收割
thin solid films, 2001, 卷号: 395, 期号: 1-2, 页码: 213-216
Feng Y; Zhu M; Liu F; Liu J; Han H; Han Y
收藏  |  浏览/下载：169/11  |  提交时间：2010/08/12
Structural evaluation of polycrystalline silicon thin films by hot-wire-assisted PECVD 会议论文  OAI收割
1st international conference on cat-cvd (hot wire cvd) process, kanazawa, japan, nov 14-17, 2000
Feng Y; Zhu M; Liu F; Liu J; Han H; Han Y
收藏  |  浏览/下载：26/0  |  提交时间：2010/11/15
工艺参数对PECVD TiN镀层性能的影响 期刊论文  OAI收割
固体润滑, 1991, 卷号: 11, 期号: 1, 页码: 51-62
张平余; 刘洪; 丛秋滋; 张绪寿; 王秀娥; 顾则鸣
收藏  |  浏览/下载：24/0  |  提交时间：2014/09/30