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机构
半导体研究所 [4]
采集方式
iSwitch采集 [2]
OAI收割 [2]
内容类型
期刊论文 [4]
发表日期
2011 [3]
2008 [1]
学科主题
光电子学 [2]
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浏览/检索结果:
共4条,第1-4条
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Strained and strain-relaxed epitaxial ge1-xsnx alloys on si(100) substrates
期刊论文
iSwitch采集
Chinese physics b, 2011, 卷号: 20, 期号: 6, 页码: 5
作者:
Wang Wei
;
Su Shao-Jian
;
Zheng Jun
;
Zhang Guang-Ze
;
Zuo Yu-Hua
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浏览/下载:124/0
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提交时间:2019/05/12
Gesn alloys
Strained
Strain-relaxed
Molecular beam epitaxy
Strained and strain-relaxed epitaxial Ge1-xSnx alloys on Si(100) substrates
期刊论文
OAI收割
chinese physics b, 2011, 卷号: 20, 期号: 6, 页码: art. no. 068103
作者:
Su SJ
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浏览/下载:104/5
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提交时间:2011/07/07
GeSn alloys
strained
strain-relaxed
molecular beam epitaxy
Strained and strain-relaxed epitaxial Ge(1-x)Sn(x) alloys on Si(100) substrates
期刊论文
OAI收割
chinese physics b, 2011, 卷号: 20, 期号: 6, 页码: 68103
Wang, W
;
Su, SJ
;
Zheng, J
;
Zhang, GZ
;
Zuo, YH
;
Cheng, BW
;
Wang, QM
收藏
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浏览/下载:28/0
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提交时间:2012/02/06
GeSn alloys
strained
strain-relaxed
molecular beam epitaxy
Promoting strain relaxation of si0.72ge0.28 film on si (100) substrate by inserting a low-temperature ge islands layer in uhvcvd
期刊论文
iSwitch采集
Applied surface science, 2008, 卷号: 255, 期号: 5, 页码: 2660-2664
作者:
Zhou, Zhiwen
;
Cai, Zhimeng
;
Li, Cheng
;
Lai, Hongkai
;
Chen, Songyan
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浏览/下载:30/0
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提交时间:2019/05/12
Relaxed buffer
Sige film
Lt-ge layer
Strain relaxation
Uhvcvd