机构

• 金属研究所 [3]
• 高能物理研究所 [2]
• 合肥物质科学研究院 [2]
• 上海光学精密机械研究... [1]
• 上海硅酸盐研究所 [1]

采集方式

• OAI收割 [8]
• iSwitch采集 [1]

内容类型

• 期刊论文 [9]

发表日期

• 2019 [2]
• 2017 [3]
• 2006 [1]
• 2005 [3]

学科主题

• 激光技术;激光物理与... [1]

筛选

浏览/检索结果: 共9条，第1-9条 帮助 条数/页： 5101520253035404550556065707580859095100 排序方式： 请选择提交时间升序提交时间降序发表日期升序发表日期降序题名升序题名降序作者升序作者降序 Temperature-dependent dielectric and Raman spectra and microwave dielectric properties of gehlenite-type Ca2Al2SiO7 ceramics 期刊论文  OAI收割 INTERNATIONAL JOURNAL OF APPLIED CERAMIC TECHNOLOGY, 2019 作者:  Song, Zhengjun;  Song, Kaixin   |  收藏  |  浏览/下载：343/0  |  提交时间：2019/12/31 5G  microwave ceramics  silicate dielectrics   Annealing-induced evolution in interface stability and electrical performance of sputtering-driven rare-earth-based gate oxides 期刊论文  OAI收割 JOURNAL OF ALLOYS AND COMPOUNDS, 2019, 卷号: 778, 期号: 无, 页码: 579-587 作者:  Wang, Die   |  收藏  |  浏览/下载：63/0  |  提交时间：2020/03/31 Dy2O3 gate dielectrics  High-k  Annealing temperature  Optical properties  Electrical characteristics   In situ study on the thermal stability and interfaces properties of er2o3/al2o3/si multi stacked films by x-ray photoelectron spectroscopy 期刊论文  iSwitch采集 Superlattices and microstructures, 2017, 卷号: 104, 页码: 415-421 作者:  Gao, Baolong;  Mamat, Mamatrishat;  Ghupur, Yasenjan;  Ablat, Abduleziz;  Ibrahim, Kurash 收藏  |  浏览/下载：33/0  |  提交时间：2019/04/23 High-k dielectric  Pld  Er2o3  Xps   Modulation of interfacial and electrical properties of ALD-derived HfAlO/Al2O3/Si gate stack by annealing temperature 期刊论文  OAI收割 JOURNAL OF ALLOYS AND COMPOUNDS, 2017, 卷号: 691, 期号: 无, 页码: 504-513 作者:  Gao, J.;  He, G.;  Liu, M. 收藏  |  浏览/下载：17/0  |  提交时间：2017/11/21 High-k Dielectric  Interface Thermal Stability  Atomic-layer-deposition  Band Alignment  Electrical Properties  Leakage Current Mechanism   In situ study on the thermal stability and interfaces properties of Er2O3/Al2O3/Si multi stacked films by X-ray photoelectron spectroscopy 期刊论文  OAI收割 SUPERLATTICES AND MICROSTRUCTURES, 2017, 卷号: 104, 页码: 415-421 作者:  Ablat, A;  Ibrahim, K;  Wang, JO;  Liu, C;  Zhao, JL   |  收藏  |  浏览/下载：18/0  |  提交时间：2019/08/27 High-k dielectric  PLD  Er2O3  XPS   Phase separation and interfacial reaction of high-k HfAlOx films prepared by pulsed-laser deposition in oxygen-deficient ambient 期刊论文  OAI收割 Applied Physics Letters, 2006, 卷号: 88, 期号: 7 X. Y. Qiu; H. W. Liu; F. Fang; M. J. Ha; J. M. Liu 收藏  |  浏览/下载：5/0  |  提交时间：2012/04/14 silicate thin-films  thermal-stability  gate dielectrics  si(100)  zro2  capacitors  diffusion  kinetics  oxides  hfo2   Interfacial microstructure of high-kappa dielectric CaZrOx films deposited by pulse laser deposition in low oxygen pressure 期刊论文  OAI收割 Integrated Ferroelectrics, 2005, 卷号: 74, 页码: 103-111 X. Y. Qiu; H. W. Liu; F. Fang; M. J. Ha; J. M. Liu 收藏  |  浏览/下载：14/0  |  提交时间：2012/04/14 calcium zirconate  interfacial kinetic process  microstructure  thermal-stability  gate dielectrics  zro2 films  thin-films  silicon  si  diffusion  si(100)  growth  oxides   Pulsed laser deposition of zirconium silicate thin films as candidate gate dielectrics 期刊论文  OAI收割 Applied Physics a-Materials Science & Processing, 2005, 卷号: 80, 期号: 1, 页码: 135-139 M. Zhu; J. Zhu; J. M. Liu; Z. G. Liu 收藏  |  浏览/下载：10/0  |  提交时间：2012/04/14 integration  oxide   飞秒双脉冲激光在硅和石英中的光学破坏 期刊论文  OAI收割 Opt. Express, 2005, 卷号: 13, 期号: 8, 页码: 3096, 3103 邓蕴沛; 谢新华; 熊辉; 冷雨欣; 程传福; 陆海鹤; 李儒新; 徐至展 收藏  |  浏览/下载：941/103  |  提交时间：2009/09/18 DIELECTRICS  GLASS  NANOSECOND  ABLATION