机构

• 金属研究所 [8]
• 广州能源研究所 [6]

采集方式

• OAI收割 [14]

内容类型

• 期刊论文 [10]
• 会议论文 [4]

发表日期

• 2005 [12]
• 2004 [2]

学科主题

筛选

浏览/检索结果: 共14条，第1-10条 帮助 条数/页： 5101520253035404550556065707580859095100 排序方式： 请选择题名升序题名降序提交时间升序提交时间降序作者升序作者降序发表日期升序发表日期降序 温度对直流反应磁控溅射制备TiO2薄膜的光学性质的影响 会议论文  OAI收割 2005全国真空冶金与表面工程学术会议, 沈阳, 2005-07-14 王贺权; 沈辉; 巴德纯; 汪保卫; 闻立时 收藏  |  浏览/下载：23/0  |  提交时间：2013/08/21 二氧化钛薄膜  直流反应  磁控溅射  温度  反射率  光学性质   温度对直流反应磁控溅射制备TiO2薄膜的光学性质的影响 会议论文  OAI收割 2005’全国真空冶金与表面工程学术会议, 沈阳, 2005-07-14 王贺权; 沈辉; 巴德纯; 汪保卫; 闻立时 收藏  |  浏览/下载：19/0  |  提交时间：2011/07/26 二氧化钛薄膜  直流反应  磁控溅射  温度  反射率  光学性质   温度对直流反应磁控溅射制备TiO_2薄膜光学性质的影响 期刊论文  OAI收割 材料科学与工程学报, 2005, 期号: 3, 页码: 341-344 王贺权,沈辉,巴德纯,汪保卫,闻立时 收藏  |  浏览/下载：17/0  |  提交时间：2012/04/12 二氧化钛薄膜  直流反应磁控溅射  温度  反射率   总气压对直流反应磁控溅射制备TiO_2薄膜的光学性质的影响 期刊论文  OAI收割 真空科学与技术学报, 2005, 期号: 1, 页码: 69-72 王贺权,巴德纯,沈辉,汪保卫,闻立时 收藏  |  浏览/下载：34/0  |  提交时间：2012/04/12 二氧化钛薄膜  直流反应磁控溅射  总气压  反射率   靶基距对直流反应磁控溅射制备TiO_2薄膜光学性质的影响 期刊论文  OAI收割 真空, 2005, 期号: 1, 页码: 11-14 王贺权,沈辉,巴德纯,汪保卫,闻立时 收藏  |  浏览/下载：18/0  |  提交时间：2012/04/12 二氧化钛薄膜  直流反应磁控溅射  靶基距  反射率   靶基距对直流反应磁控溅射制备TiO_2薄膜光学性质的影响 期刊论文  OAI收割 真空, 2005, 卷号: 042, 期号: 001, 页码: 11 作者:  王贺权;  沈辉;  巴德纯;  汪保卫;  闻立时   |  收藏  |  浏览/下载：16/0  |  提交时间：2019/11/29 温度对直流反应磁控溅射制备TiO2薄膜光学性质的影响 期刊论文  OAI收割 材料科学与工程学报, 2005, 卷号: 23, 期号: 3, 页码: 341-344 王贺权; 沈辉; 巴德纯; 汪保卫; 闻立时 收藏  |  浏览/下载：224/42  |  提交时间：2009/12/10 总气压对直流反应磁控溅射制备TiO2薄膜的光学性质的影响 期刊论文  OAI收割 真空科学与技术学报, 2005, 卷号: 25, 期号: 1, 页码: 65-68 王贺权; 巴德纯; 沈辉; 汪保卫; 闻立时 收藏  |  浏览/下载：303/14  |  提交时间：2009/12/10 氧流量对直流反应磁控溅射制备TiO2薄膜的光学性质的影响 期刊论文  OAI收割 中山大学学报：自然科学版, 2005, 卷号: 44, 期号: 6, 页码: 36-40 王贺权; 沈辉; 巴德纯; 汪保卫; 闻立时 收藏  |  浏览/下载：266/50  |  提交时间：2009/12/09 总气压对直流反应磁控溅射制备TiO2薄膜的光学性质的影响 期刊论文  OAI收割 真空科学与技术学报, 2005, 卷号: 25.0, 期号: 1.0, 页码: 65-68 作者:  王贺权;  巴德纯;  沈辉;  汪保卫;  闻立时   |  收藏  |  浏览/下载：13/0  |  提交时间：2021/02/02 TiO2薄膜  光学性质  直流反应磁控溅射  折射率  气压  晶体结构  硅基底  短波  对消  反射率