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OAI收割 [12]
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会议论文 [2]
发表日期
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2017 [1]
2015 [1]
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GaN湿法刻蚀方法及其应用研究
学位论文
OAI收割
: 中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所, 2018
作者:
张淼荣
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浏览/下载:71/0
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提交时间:2019/03/28
GaN,湿法刻蚀,电化学传感,表面增强拉曼散射
新型锆/铪/钪系二维碳化物的合成、微观结构与性能研究
期刊论文
OAI收割
中国科学院大学(中国科学院宁波材料技术与工程研究所), 2017, 页码: 119
作者:
周洁
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浏览/下载:20/0
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提交时间:2018/12/04
Mxenes
选择性刻蚀
合成
二维材料
碳化物
密度泛函
电化学性能
电化学刻蚀多孔硅阵列的形貌研究
期刊论文
OAI收割
电子元件与材料, 2015, 期号: 11, 页码: 48-52
作者:
陈婷婷
;
顾牡
;
于怀娜
;
刘小林
;
黄世明
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浏览/下载:25/0
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提交时间:2016/06/06
电化学刻蚀
多孔硅阵列
形貌
孔径调控
模板引导
X射线转换屏
含氟水溶液中电化学刻蚀氟化WO_3薄膜电极增强可见光光电化学性能
期刊论文
OAI收割
物理化学学报, 2009, 期号: 12, 页码: 2427-2432
李文
;
冷文华
;
牛振江
;
李想
;
费会
;
张鉴清
;
曹楚南
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浏览/下载:17/0
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提交时间:2012/04/12
WO_3
电化学刻蚀
氟化
光电化学
可见光
含氟水溶液中电化学刻蚀氟化WO3薄膜电极增强可见光光电化学性能
期刊论文
OAI收割
物理化学学报, 2009, 卷号: 000, 期号: 012, 页码: 2427-2432
作者:
李文
;
冷文华
;
牛振江
;
李想
;
费会
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浏览/下载:14/0
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提交时间:2021/02/02
WO3
电化学刻蚀
氟化
光电化学
可见光
CMP纳米抛光液及抛光工艺相关技术研究
学位论文
OAI收割
博士: 中国科学院研究生院(上海微系统与信息技术研究所) , 2006
张楷亮
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提交时间:2012/03/06
化学机械抛光
纳米研磨料
硅衬底
Ge-Sb-Te
电化学
湿法刻蚀
硅的电化学深刻蚀技术
会议论文
OAI收割
第十三届全国电子束、离子束、光子束学术年会, 2005
王连卫
;
吴俊徐
;
陈瑜
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浏览/下载:39/0
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提交时间:2012/01/18
硅衬底 电化学深刻蚀 传感器 深反应离子刻蚀 阳极氧化 微纳米通道
锑化物激光器、探测器的刻蚀工艺以及电化学C-V技术研究
学位论文
OAI收割
硕士: 中国科学院研究生院(上海微系统与信息技术研究所) , 2005
洪婷
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浏览/下载:50/0
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提交时间:2012/03/06
锑化物:6396
电化学:3621
探测器:3549
刻蚀速率:3514
刻蚀工艺:2688
气体组分:2114
多量子阱激光器:1896
技术研究:1713
腐蚀液:1361
湿法:966
微型桥带的成型与焊接工艺研究
期刊论文
OAI收割
光学精密工程, 2000, 期号: 03, 页码: 265-268
郑权
;
李永正
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浏览/下载:3/0
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提交时间:2013/03/12
微型桥带
电化学刻蚀
粉末熔覆
激光焊接
约束刻蚀剂层技术最新进展——用于规整微结构图形加工刻蚀
会议论文
OAI收割
《微米/纳米科学与技术》第5卷第1期, 2000
孙建军
;
黄海苟
;
田中群
;
田昭武
;
蒋利民
;
罗瑾
;
穆纪千
;
叶雄英
;
周兆英
;
张涛
;
孙立宁
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提交时间:2012/01/18
电化学 约束刻蚀剂层技术 CEIT