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机构
微电子研究所 [10]
上海应用物理研究所 [1]
采集方式
OAI收割 [11]
内容类型
期刊论文 [10]
学位论文 [1]
发表日期
2009 [1]
2008 [3]
2007 [1]
2005 [2]
2004 [2]
2003 [1]
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应用于纳米制造的新型电子束抗蚀剂Calixarene的工艺研究
期刊论文
OAI收割
纳米技术与精密工程, 2009, 卷号: 7, 期号: 3, 页码: 4,275-278
作者:
谢常青
;
安南
;
刘明
;
陈宝钦
;
任黎明
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浏览/下载:24/0
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提交时间:2010/06/01
纳米制造
电子束光刻
工艺技术
电子束抗蚀剂
Calixarene
电子束光刻在纳米加工及器件制备中的应用
期刊论文
OAI收割
微纳电子技术, 2008, 卷号: 45, 期号: 12, 页码: 6,683-688
作者:
任黎明
;
徐秋霞
;
王琴
;
谢常青
;
朱效立
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浏览/下载:22/0
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提交时间:2010/05/27
电子束光刻
电子束光刻制备5000 line/mm光栅掩模关键技术研究
期刊论文
OAI收割
微细加工技术, 2008, 期号: 4, 页码: 3,4-5,13
作者:
朱效立
;
谢常青
;
赵珉
;
陈宝钦
;
叶甜春
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浏览/下载:24/0
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提交时间:2010/05/27
电子束光刻
200nm栅长In0.52Al0.48As/In0.6Ga0.4As MHEMTs器件
期刊论文
OAI收割
半导体学报, 2008, 卷号: 29, 期号: 9, 页码: 3,1679-1681
作者:
黎明
;
张海英
;
徐静波
;
付晓君
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浏览/下载:11/0
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提交时间:2010/05/27
Mhemt
Inaias/ingaas
电子束光刻
T型栅
高线密度X射线透射光栅的制作工艺
期刊论文
OAI收割
半导体学报, 2007, 卷号: 28, 期号: 12, 页码: 5,2006_2010
作者:
陈宝钦
;
叶甜春
;
赵珉
;
姜骥
;
张庆钊
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浏览/下载:18/0
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提交时间:2010/05/26
电子束光刻
透射光栅
X射线光刻
X射线衍射光学元件
软X射线干涉光刻相关技术研究
学位论文
OAI收割
博士, 上海应用物理研究所: 中国科学院上海应用物理研究所, 2005
朱伟忠
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浏览/下载:128/0
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提交时间:2012/04/11
软X射线金属型透射光栅
严格耦合波方法
电子束光刻
衍射效率
软X射线干涉光刻
一种提取电子束光刻中电子散射参数的新方法
期刊论文
OAI收割
半导体学报, 2005, 卷号: 26, 期号: 3, 页码: 5,455-459
作者:
康晓辉
;
李志刚
;
刘明
;
谢常青
;
陈宝钦
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提交时间:2010/05/26
电子束光刻
纳米级精细线条图形的微细加工
期刊论文
OAI收割
半导体学报, 2004, 卷号: 25, 期号: 12, 页码: 1722-1725
作者:
黄如
;
任黎明
;
王文平
;
陈宝钦
;
周毅
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浏览/下载:23/0
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提交时间:2010/05/26
微细加工
电子束光刻
邻近效应校正
Icp刻蚀
电子束散射角限制投影光刻掩模研制
期刊论文
OAI收割
光电工程, 2004, 卷号: 31, 期号: 4, 页码: 13-16
作者:
杨清华
;
董立军
;
李兵
;
陈宝钦
;
刘明
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浏览/下载:7/0
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提交时间:2010/05/26
电子束光刻
掩模
投影光刻
纳米级电子束直写曝光的基础工艺
期刊论文
OAI收割
半导体学报, 2003, 卷号: 24, 期号: B05, 页码: 3,226-228
作者:
陆晶
;
刘明
;
陈宝钦
;
王云翔
;
龙世兵
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提交时间:2010/05/25
电子束光刻
混合光刻
邻近效应修正