机构

• 金属研究所 [4]
• 福建物质结构研究所 [1]
• 兰州化学物理研究所 [1]

采集方式

• OAI收割 [6]

内容类型

• 期刊论文 [6]

发表日期

• 2014 [1]
• 2011 [1]
• 2010 [1]
• 2009 [1]
• 2005 [1]
• 1998 [1]
• 更多

学科主题

• 材料科学与物理化学 [1]

筛选

浏览/检索结果: 共6条，第1-6条 帮助 条数/页： 5101520253035404550556065707580859095100 排序方式： 请选择题名升序题名降序提交时间升序提交时间降序作者升序作者降序发表日期升序发表日期降序 Microstructure and properties of AlB2-type WB2 thin films deposited by direct-current magnetron sputtering 期刊论文  OAI收割 Surface & Coatings Technology, 2014, 卷号: 245, 页码: 108-116 Y. M. Liu; C. L. Jiang; Z. L. Pei; H. Lei; J. Gong; C. Sun 收藏  |  浏览/下载：25/0  |  提交时间：2014/07/03 AlB2-type WB2 films  DC magnetron sputtering  Hardness  Tribological  properties  Self-lubricating  boric-acid films  mechanical-properties  enhanced resistance  oxide  coatings  hard coatings  bias voltage  tool steel  al  substrate  tungsten   Influence of substrate bias voltage on the microstructure and residual stress of CrN films deposited by medium frequency magnetron sputtering 期刊论文  OAI收割 Materials Science and Engineering B, 2011, 卷号: 176, 页码: 850-854 作者:  Ji L(吉利);  Li HX(李红轩);  Li HX(李红轩);  Zhou HD(周惠娣);  Chen JM(陈建敏) 收藏  |  浏览/下载：29/0  |  提交时间：2012/09/24 CrN films  Medium frequency magnetron sputterin  Substrate bias voltage  Microstructure  Residual stress   Low content indium-doped zinc oxide films with tunable work function fabricated through magnetron sputtering 期刊论文  OAI收割 Semiconductor Science and Technology, 2010, 卷号: 25, 期号: 4 C. G. Huang, M. L. Wang, Z. H. Deng, Y. G. Cao, Q. L. Liu, Z. Huang, Y. Liu, W. Guo and Q. F. Huang 收藏  |  浏览/下载：42/0  |  提交时间：2012/11/02 bias voltage  optical-properties  substrate  zno  alternatives  dependence  surface  devices   Effect of Sample Configuration on Droplet-Particles of TiN Films Deposited by Pulse Biased Arc Ion Plating 期刊论文  OAI收割 Journal of Materials Science & Technology, 2009, 卷号: 25, 期号: 5, 页码: 681-686 Y. H. Zhao; G. Q. Liu; J. Q. Xiao; C. Dong; L. S. Wen 收藏  |  浏览/下载：19/0  |  提交时间：2012/04/13 Arc ion plating  Pulsed bias  TiN film  Droplet-particles  plasma sheath  vacuum-arc  macroparticles  levitation  substrate  mechanism  voltage  dust   Substrate temperature calculation for pulsed bias arc ion plating 期刊论文  OAI收割 Surface & Coatings Technology, 2005, 卷号: 194, 期号: 2-3, 页码: 325-329 G. Q. Lin; X. Bai; C. Dong; W. Lishi; L. H. Wen 收藏  |  浏览/下载：26/0  |  提交时间：2012/04/14 substrate temperature  arc ion plating  pulsed bias  tin  deposition  voltage   Low temperature deposition of titanium nitride 期刊论文  OAI收割 Journal of Materials Science & Technology, 1998, 卷号: 14, 期号: 4, 页码: 289-293 L. S. Wen; R. F. Huang 收藏  |  浏览/下载：18/0  |  提交时间：2012/04/14 pulse bias voltage  residual-stress  ion-bombardment  hard coatings  pvd  coatings  film growth  tin  arc  resistance  substrate