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浏览/检索结果: 共18条，第1-10条 帮助 条数/页： 5101520253035404550556065707580859095100 排序方式： 请选择提交时间升序提交时间降序发表日期升序发表日期降序题名升序题名降序作者升序作者降序 Transparent ultraviolet photovoltaic cells 期刊论文  OAI收割 Optics Letters, 2016, 卷号: 41, 期号: 4 作者:  Yang, X.;  C. X. Shan;  Y. J. Lu;  X. H. Xie;  B. H. Li 收藏  |  浏览/下载：15/0  |  提交时间：2017/09/11 基于遗传算法的光刻机光源掩模优化技术研究 学位论文  OAI收割 博士: 中国科学院上海光学精密机械研究所, 2016 作者:  杨朝兴 收藏  |  浏览/下载：64/0  |  提交时间：2016/11/28 光刻  分辨率增强技术  光源掩模优化  遗传算法   光刻投影物镜波像差原位干涉检测技术研究 学位论文  OAI收割 硕士: 中国科学院上海光学精密机械研究所, 2015 作者:  吴飞斌 收藏  |  浏览/下载：72/0  |  提交时间：2016/11/28 光刻投影物镜  1xnm节点  波像差原位检测  Ronchi剪切干涉仪  相位提取   Research development of thermal aberration in 193nm lithography exposure system 会议论文  OAI收割 Proceedings of SPIE: 7th International Symposium on Advanced Optical Manufacturing and Testing Technologies: Design Manufacturing, and Testing of Micro- and Nano-Optical Devices, and Systems, 2014 作者:  Wang, Yueqiang;  Liu, Yong 收藏  |  浏览/下载：19/0  |  提交时间：2016/11/23 Aberration measurement technique based on an analytical linear model of a through-focus aerial image 期刊论文  OAI收割 opt. express, 2014, 卷号: 22, 期号: 5, 页码: 5623 作者:  Yan, Guanyong;  Wang, Xiangzhao;  Li, Sikun;  Yang, Jishuo;  Xu, Dongbo 收藏  |  浏览/下载：24/0  |  提交时间：2016/11/28 NIJBOER-ZERNIKE APPROACH  POINT-SPREAD FUNCTIONS  PHASE-SHIFTING MASK  LITHOGRAPHIC TOOLS  PROJECTION OPTICS  COMA MEASUREMENT  ILLUMINATION  COMPUTATION   Aberration measurement technique based on an analytical linear model of a through-focus aerial image 期刊论文  OAI收割 opt. express, 2014, 卷号: 22, 期号: 5, 页码: 5623 作者:  Yan, Guanyong;  Wang, Xiangzhao;  Li, Sikun;  Yang, Jishuo;  Xu, Dongbo 收藏  |  浏览/下载：14/0  |  提交时间：2016/11/28 NIJBOER-ZERNIKE APPROACH  POINT-SPREAD FUNCTIONS  PHASE-SHIFTING MASK  LITHOGRAPHIC TOOLS  PROJECTION OPTICS  COMA MEASUREMENT  ILLUMINATION  COMPUTATION   Technology of focus detection for 193nm projection lithographic tool 会议论文  OAI收割 Proceedings of SPIE: 6th International Symposium on Advanced Optical Manufacturing and Testing Technologies: Design, Manufacturing, and Testing of Smart Structures, Micro- and Nano-Optical Devices, and Systems, 2012 作者:  Di, Chengliang;  Yan, Wei;  Hu, Song;  Xu, Feng;  Li, Jinglong 收藏  |  浏览/下载：7/0  |  提交时间：2016/11/24 Impact of polarized illumination on high NA imaging in ArF immersion lithography at 45 nm node 期刊论文  OAI收割 optik, 2009, 卷号: 120, 期号: 7, 页码: 325, 329 Yuan Qiongyan; 王向朝; Qiu Zicheng 收藏  |  浏览/下载：1237/225  |  提交时间：2009/09/18 Immersion lithography  Polarized illumination  Normalized image log slope  Exposure defocus window   In situ surface topography measurement method of granite base in scanning wafer stage with laser interferometer 期刊论文  OAI收割 optik, 2008, 卷号: 119, 期号: 1, 页码: 1, 6 He Le; 王向朝; Shi Weijie 收藏  |  浏览/下载：904/143  |  提交时间：2009/09/18 laser interferometer  topography measurement  least squares method  scanning wafer stage  lithographic tool   Transient thermal and structural deformation and its impact on optical performance of projection optics for extreme ultraviolet lithography 期刊论文  iSwitch采集 Japanese journal of applied physics part 1-regular papers brief communications & review papers, 2007, 卷号: 46, 期号: 10a, 页码: 6568-6572 作者:  Liu, Ke;  Li, Yanqiu;  Zhang, Fuchang;  Fan, Mingzhe 收藏  |  浏览/下载：25/0  |  提交时间：2019/05/10 Extreme ultraviolet lithography  Projection optics  Thermal and structural effect  Mirror mount  Thermo-mechanical analysis  Zernike polynomials