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一种堆叠式围栅纳米线器件假栅电极制备方法
专利
OAI收割
专利号: CN201610033601.1, 申请日期: 2018-11-27, 公开日期: 2016-06-15
作者:
孟令款
;
徐秋霞
;
闫江
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提交时间:2019/03/26
堆叠纳米线制造方法
专利
OAI收割
专利号: CN201610080648.3, 申请日期: 2018-08-10, 公开日期: 2016-06-29
作者:
孟令款
;
闫江
;
徐秋霞
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浏览/下载:30/0
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提交时间:2019/03/22
Influence of the hard masks profiles on formation of nanometer Si scalloped fins arrays
期刊论文
OAI收割
MICROELECTRONIC ENGINEERING, 2018
作者:
Tongda Ma
;
Zhang QZ(张青竹)
;
Hailing Tu
;
Yin HX(殷华湘)
;
Feng Wei
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提交时间:2019/05/20
嵌段共聚物自组装制造纳米结构的方法
专利
OAI收割
专利号: CN201610066983.8, 申请日期: 2018-06-26, 公开日期: 2016-05-11
作者:
孟令款
;
闫江
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提交时间:2019/03/21
Novel GAA Si Nanowire p-MOSFETs With Excellent Short-Channel Effect Immunity via an Advanced Forming Process
期刊论文
OAI收割
IEEE Electron Device Letters, 2018
作者:
Zhang QZ(张青竹)
;
Yin HX(殷华湘)
;
Meng LK(孟令款)
;
Yao JX(姚佳欣)
;
Li JJ(李俊杰)
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提交时间:2019/05/05
定向自组装模板转移方法
专利
OAI收割
专利号: CN201610067780.0, 申请日期: 2018-02-16, 公开日期: 2016-05-11
作者:
闫江
;
孟令款
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提交时间:2019/03/14
混合光学和电子束光刻方法
专利
OAI收割
专利号: CN201210353673.6, 申请日期: 2018-02-09, 公开日期: 2014-03-26
作者:
李春龙
;
孟令款
;
贺晓彬
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提交时间:2019/03/14
一种硅深孔刻蚀方法
专利
OAI收割
专利号: CN201410571338.2, 申请日期: 2018-02-09, 公开日期: 2016-05-18
作者:
赵超
;
李俊杰
;
孟令款
;
李春龙
;
洪培真
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提交时间:2019/03/14
Study of sigma-shaped source/drain recesses for embedded-SiGe pMOSFETs
期刊论文
OAI收割
Microelectronic Engineering, 2017
作者:
Zhu HL(朱慧珑)
;
Xu QX(徐秋霞)
;
Li JF(李俊峰)
;
Zhao C(赵超)
;
Henry Homayoun Radamson
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提交时间:2018/07/09
22nm及以下技术节点CMOS器件先导刻蚀及其关键技术研究
学位论文
OAI收割
: 中国科学院大学, 2017
作者:
孟令款
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提交时间:2017/08/23