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レーザ剥離装置、レーザ剥離方法、III族窒化物半導体自立基板の製造方法 专利  OAI收割
专利号: JP2011151400A, 申请日期: 2011-08-04, 公开日期: 2011-08-04
作者:  
砂川 晴夫;  碓井 彰
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化合物半导体衬底的制造方法 专利  OAI收割
专利号: CN100481326C, 申请日期: 2009-04-22, 公开日期: 2009-04-22
作者:  
宫孝夫;  富谷茂隆;  碓井彰;  宫孝夫
  |  收藏  |  浏览/下载:7/0  |  提交时间:2019/12/26
基于Ⅲ族氮化物的半导体基片及其制造方法 专利  OAI收割
专利号: CN1218374C, 申请日期: 2005-09-07, 公开日期: 2005-09-07
作者:  
碓井彰;  柴田真佐知;  大岛祐一
  |  收藏  |  浏览/下载:18/0  |  提交时间:2019/12/26
基于氮化物的化合物半导体晶体衬底结构及其制造方法 专利  OAI收割
专利号: CN1387231A, 申请日期: 2002-12-25, 公开日期: 2002-12-25
作者:  
碓井彰;  柴田真佐知;  大岛祐一
  |  收藏  |  浏览/下载:43/0  |  提交时间:2020/01/18
Ⅲ族氮化物制造的半导体衬底及其制造工艺 专利  OAI收割
专利号: CN1378237A, 申请日期: 2002-11-06, 公开日期: 2002-11-06
作者:  
碓井彰;  柴田真佐知;  大岛祐一
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GaN系半導体の成長方法およびGaN系半導体膜 专利  OAI收割
专利号: JP3139445B2, 申请日期: 2000-12-15, 公开日期: 2001-02-26
作者:  
砂川 晴夫;  碓井 彰
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量子細線構造の作製方法 专利  OAI收割
专利号: JP1993308138A, 申请日期: 1993-11-19, 公开日期: 1993-11-19
作者:  
碓井 彰;  砂川 晴夫
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